主题：【原创】如何去除透射样品腔长期累积的碳氢化合污染物？（透射等离子清洗机和等离子清洗透射样品杆的应用）

从那段英文中没有看到关于能量的描述

有详细的资料能上传看一下不

原文由 小M(mitchell_dyzy) 发表:
从那段英文中没有看到关于能量的描述

对的，现在也在等待原厂关于Soft能量值回复

一体化的等离子清洗机：
即可以清洁透射样品杆也可进行敏感样品保固：

这个对比原来的有什么优点，能不能上传点资料啊

原文由 lich_dc(lich_dc) 发表:
一体化的等离子清洗机：
即可以清洁透射样品杆也可进行敏感样品保固：

此等离子清洗机有专利技术，是低真空便可产生自由基离子进行等样品杆和样品的离子清洁， 不需要像GATAN那样一定配置分子泵的。 所以未来的使用对于真空没有依赖，维护成本也就大大下降了。

而像一般等离子需要分子泵使用中就必须隔一段时间才能开，因为真空一定要抽到高真空才行，运行一段时间真空掉了又得抽段时间才能工作， 而这款Combinclean则不需要， 国产机械泵都可以完全达到真空度进行工作， 所以对于未来使用成本和维护成本大大降低

XEI科学公司，1100多家Evactron净化器清洗系统，电子显微镜和其他真空室的血浆制作商，近日发布宣布新Evactron CombiClean体系（顶部图像）简化为两个列和等离子自由基源的把持和操作为中小型企业，电信装备制作商和FIBs应用的电子列标本的桌面干净。



重要应用电子列（中小型企业，电信装备制作商和FIBs），比1100 Evactron净化体系，XEI科学扩展其有效的下游等离子清洗技巧的利用。今年早些时候，XEI先容Evactron SoftClean商会容许用户安装到桌面的真空室Evactron等离子体（减贫战略）激进源供给样品，持有人及其他部件的雷同问题的碳氢化合物污染，有效往除，才放置在电子列。



应用RF和获得专利的空心阴极电极，Evactron体系发生一个是在PRS模块中的血浆。反映气体自由基天生，并绘制成的样品室，在那里化学分解成更小的成分是那么轻易被仪器的真空系统（底部形象）删除不必要的碳氢化合物分子。



在7-11年8月在田纳西州纳什维尔，在显微镜和微量剖析会议，XEI科学将推出Evactron CombiClean系统，以简化多个减贫战略列和桌面模块的把持和操作。有了一个新的集成把持器和真空室，运营商可以轻松地选择减贫战略是积极的，通过系统的前面板之间的无缝切换列清洁和桌面在显微镜使用的零件污染。



其他利益包含清洗TEM样品持有多个插进端口。干净室可以作为一个安全的，长期的净化样品储存容器。它有一个大的圆形盖子，便利插进样品，而干燥的氮气吹扫防止等离子清洗后，样品储存期间分流到容许使用的旋片泵。价钱极具吸引力，并具有占地面积小，这种新的干净解决计划持续供给符合本钱效益和创新的解决计划，以改良电子和离子的成像工具的性能XEI树立了近20年的传统。

引用一下“黑洞”  06年的一个帖子


在透射电镜观察的过程中，样品污染一直是一个影响高分辨成像质量的重要原因之一，尤其STEM越来越被广泛的应用，由于束斑要比TEM小的多，所以它的污染速率要更快，不管你是BF还是HAADF有时辛辛苦苦的找到一块好的区域，但扫一幅图下来就惨不忍睹了。试样的污染主要是由于镜筒内残留的碳氢化合物，以及吸附在样品表面的有机物，当电子束照射某一区域时，向其聚集所致。如何有效地加以改善哪？
一，        首先是要改善样品室的真空卫生。
1，        达到尽可能高的真空度，一般使用要优于2x10-5Pa（使用SIP和TMP的）。
2，        不要用手去接触放入真空中样品杆的前端部分，即橡皮圈之前。
3，        样品杆长期在大气中暴露，尤其是在雨季或潮湿地区，吸附在上面的有机物很难在短时间内被抽走，这样放入样品室后就会在一定程度上破坏真空度。有条件的话最好配备一个样品杆预抽机，不使用的样品杆可以先放在这里预抽保持干燥，同时有的样品杆预抽机还带有烘烤功能，这样更有利于污染物的挥发，像JEOL的JDS-230F （GATAN的带吗？我没用过）。没有的话，最好在把样品取出后再将样品杆放回到样品室保持在真空状态。
4，        对于使用DP作为样品室预抽的最好不要超过10分钟，太长油蒸汽多少会污染一些样品。
5，        样品杆放入后不要马上将灯丝或电子枪隔离阀打开，因为在插入的过程中多少会人为的造成一点泄漏，即使看着真空度很好，最好再等待1~2分钟，等真空稳定后再观察。
6，        使用ACD抗污染装置，每天早上的第一件事就应该将液氮加上，它不仅有利于样品室的真空卫生，而且对SIP的寿命也是有好处的。它的有效工作时间是7~8小时，所以在中午吃饭前为了确保下午工作不受影响，应该将ACD再补充满液氮。当然别忘了，下班前的最后一件事就是要将加热棒放入ACD将剩余的液氮考出来，切记！！！
7，        1~3个月要将镜筒烘烤一次，一般在周末BAKE 60小时左右。

二，        使用PLASMA CLEANERZ(等离子清洗机)对样品进行处理。它是通过活性等离子对样品进行物理轰击与化学反应双重作用，使被清洗物表面的有机物及氧化层物质变成粒子和气态物质，经过抽真空排出，而达到清洗目的。另外它也可以作为样品预抽机使。
　
三，        BEAM SHOWER（样品沐浴）-最为经济有效的防污染方法。第一次用这个方法做HAADF，我真是惊异于它的功效，千万别小瞧它。它的原理就是通过强光照射样品后，可把有机物暂时固定在样品表面，在做象CBD和STEM这样小束斑的工作时它们就不会往束斑下聚集了，从而减小了污染率。具体步骤如下：
1，        LOW MAG模式，使整个铜网与大荧光屏尺寸相接近。
2，        TEM1-3。
3，        CL AP撤出位置。
4，        将光聚成与整个铜网相一致的大小。
5，        可加入IL AP并将光阑孔调出荧光屏外，只用一个方向的旋钮，并记住调整的方向以便后面调回。此目的是防止长时间的强光照射荧光屏，造成其老化。
6，        沐浴时间为30分钟。
7，        最后将IL AP光阑孔调回并撤出。
8，        返回到MAG模式。
9，        注意：不是所有的样品都适合做BEAM SHOWER，像怕辐照损伤的，以防损害您的样品。
10，        BEAM SHOWER不是一劳永逸，它的功效也就30分钟，超过这个时间要再做一次。

我前段时间看到过这个介绍好像是一种新的等离子漂洗，不会伤害到样品只是和碳氢污染物发生反应。

这种新型的透射等离子清洗机具有专利技术在低真空下完成离子清洁过程，而且可以持续使用，现在市场上GATAN是做不到的，GATAN的需要高真空所以对真空泵系统要求高维护高，而且需要间歇式工作的。


大家终于可以摆脱掉GATAN一家的选择了