我之前没有用JEM 2010HT做过,不过我看到老板做过好像效果不好,不知道是不是因为样品的缘故.我前几天我拿的样品在TECNAI G2上让实验员作了一下,感觉效果实在不好.有个老师就想去JEM 2010F上试试,不知道可行不?
还有上面的图片有能指导一下吗?
还有我自己拍的一副图片,能不能帮我看一下?是ZnSe的图,它有2种结构一种是立方相一种是六角的.
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这个是原图,不过我转成jpg了.
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这个是图中方框部分的图,没有经过处理.
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这个是我经过mask后的图,从d来看是沿着<111>方向或者<0001>方向的堆跺,图中标(111)和(0002)的地方,间距在digitalmicrograph里面量是3.2A左右.图上我打了箭头的地方衬度和相邻的原子面不同是什么原因造成的,而且似乎都不是很清楚可能是什么原因?
而且原图中最右边的图像有没有可能进行模拟呀,感觉好无序.
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这个是我模拟的不知道可不可以?图片太小可以保存下来点放大,就能看到,底下的带轴是我根据相应带轴进行的模拟
希望有经验的给点指导,刚刚接触搞不大清楚,而可怜的是,原来老板也不在,没有办法学习,还有好几张图片感觉太复杂.