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原文由 cwk_12(cwk_12) 发表:原文由 重做小学生(langhuashang) 发表:原文由 cwk_12(cwk_12) 发表:原文由 yu313(yu313) 发表:
化妆品基质都比较复杂，前处理很难处理的干净，而且用石墨炉测定含量好高啊，选择基体改进剂就比较难选择，火焰法不光复现性差，而且极不稳定，标准曲线吸光度也不高。
我感觉我们生产的化妆品含量都挺低的，基改剂一般的还是用磷酸二氢铵啊
化妆品基体复杂，建议1%磷酸二氢铵+0.05%硝酸镁做改进剂
我一般都是用仪器上推荐的浓度0.5%的磷酸二氢铵
原文由 cwk_12(cwk_12) 发表:原文由 重做小学生(langhuashang) 发表:原文由 cwk_12(cwk_12) 发表:原文由 悠旸(ihqs) 发表:
关键还是选择合适的称样量，样品消解完全，浓度控制在几十个ppb以内上石墨炉为何不可呢？
像一些粉底类的单纯的硝酸 微波很难消解完全，总是会有一些类似白色泡沫的东西浮在上面。该怎么处理呢？我都是过滤的，如果+一点HF倒是可以完全消解好，但是做As的时候空白以及样品都超过线性范围很多，什么原因呢？
加单一的硝酸肯定效果不好，要加混酸消解
比如？
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