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主题：【讨论】rf和DC的功率那个大？比如对于钢样的分析？

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wangjun650413
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2012/9/30 20:34:23 11楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
Rf放电光源剖面分析是采用JY GD Profiler HR（Jobin-yvon horiba,法国），在恒定的压强和恒定的外加功率的条件下工作的。这种光源是在650Pa的压强和40W的功率条件下释放的，铜阳极直径为4mm。所用元素的发射谱线为（波长单位nm）：Ti（365.360），N（149.262），C（156.144），Cr（425.433），Fe（371.994），H（121.504）。一些用来校准所用的标准材料为：低合金钢，NBS 1766（NIST，美国）；合金钢，HS1B，HS3E和HS8C（Glen Spectra，英国）；铸铁，FCR5/1B59（CTIF，法国）；不锈钢，17005（MBH Analytical,英国）；钛合金，COTI5-2.5（Glen Spectra，英国）；陶瓷，CC650A（SIMR，瑞典）。用PVD沉积的方法在WC上沉积TiN的试样主要是利用它的氮密度较高的性能。NBS1766钢试样用来做溅射率的参考。它的溅射率为0.594gm-2s-1，相当于4.53μm/min。在校准和分析中包括一种氢修正。这种设备中的20点/秒的采集速率适用于检测所有的试样，除了CVD镀层，它的检测要使用0.2点/秒的采集速率。对于所有的剖面，我们用接近20点都光滑滤光装置使其表面光滑。
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wangjun650413
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2012/9/30 20:34:45 12楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原子和分子氮在150keV的条件下离子注入到钛合金中所得的氮的深度剖面不到半微米。从由剖面编码电脑程序作的深度剖面的模拟可以看出，原子注入的铁原子区域大约270nm，而分子注入却不足100nm（由于分子，离子的量是原子的两倍）。从这些试样的分析中可以得出这样的假设，所制作的试样中只有钛和氮的存在。由于这个原因，在量化过程中只分析二元体系。
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wangjun650413
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2012/9/30 20:35:00 13楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
图1所示为在不同的条件下注入的两个钛试样的辉光放电光谱深度剖面分析曲线。在这两个图表中，分别由用rf和dc两种光源检测的N和Ti的剖面分析曲线，从两个试验结果中可以看出检测较准确的光源。从原子注入的发射范围Rp可以看出，这个值大约为340.70nm，远远大于模拟的数值。这种情形的出现主要是由于最表层的氧化物存在的缘故，同时薄的碳膜也对减少基体钛试样的溅射起到了保护层的作用。另外还有两个因素可能导致这种不一致：计算机模拟没有考虑碳和氧化物镀层的厚度问题，还有就是在模拟中我们所用的金属基体的溅射率比碳或氧化物表面镀层的溅射率要大。这两个因素就可以解释（至少可以部分解释）这种实际操作结果和计算机模拟结果的不一致。
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wangjun650413
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2012/9/30 20:35:31 14楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
外，成功的碳和氮注入试验是，在100keV的条件下以3×1018 个离子/cm2的剂量注入到不锈钢中。图2所示为对成功的注入氮和碳的高速钢试样用rf和dc光源进行的剖面分析。
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2012/9/30 20:38:24 Last edit by wangjun650413
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2012/9/30 20:38:30 15楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
在工具钢试样表面沉积TiN/CrN的多层镀层总厚度大约为3μm。图3a所示为这种沉积镀层的溅射坑的光学照片，从中我们可以看到20层以上的TiN和CrN的单层镀层。图3b和c所示为分别用rf和dc光源所作的辉光放电光谱剖面分析曲线，对比图3中的b和c曲线，能够看出这两种检测方式具有较好的相关性，和它们的一些共同的特点。Ti和Cr的信号在深度方向对成份失去调制。多镀层中的第一层要比最后一层的分辨率要高，由于深度分析技术方面的欠缺。这种现象的出现是由于在溅射坑周围溅射浓度较高的结果。
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2012/9/30 20:38:42 16楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
用低压化学气相沉积的方法在工具钢表面沉积TiC-TiN双层镀层。图4所示为用rf和dc光源对这种镀层进行的辉光放电光谱深度剖面分析曲线。用CVD技术能够使镀层的厚度提高到10μm。Dc光源剖面分析具有相当低的噪音，主要是因为设备在检测试样时，所用的收集速率很低。选择这种光源的原因是，化学气相沉积所要检测的总体厚度是离子注入深度的20倍。
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wangjun650413
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2012/9/30 20:39:04 17楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
本试验工作研究了用辉光放电光谱技术对不同表面处理的试样分析情况，所用设备为JY GD PROFILER HR，激发光源为rf和LECO GDS750的dc光源。试验结果包括以下几点：
    辉光放电光谱技术不仅能用于固体材料的元素分析，而且能够提供深度剖面的浓度变化，检测范围可从几纳米到几十微米。
    当分析传导试样时，用JY GD PROFILER HR设备的rf光源检测的结果类似于甚至好于用LECO GDS750设备的dc光源所检测的结果。
辉光放电光谱技术是一中用来研究和定量控制的有力的工具，它的表面分析的精度比的上其他的像AES和XPS的分析方法，同时具有分析时间相当短的优点。
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2012/9/30 20:41:10 18楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 chauchylan(chauchylan) 发表:
RF应大于DC，这是因为钢铁样品是比较容易激发的，而非导体要比金属难激发，RF提供的能量要大于DC

好像RF的功率大啊？是这样吗？
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2012/9/30 20:41:59 19楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 牛　牛(yonglinxu) 发表:
功率哪个大？ 这个值是可以设定的啊 你想设多少都可以啊 只要能达到 怎么比哪个大的

我是打个比喻啊，相同的样子！不过最高的功率也不高啊
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denx5201314
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2012/9/30 20:42:40 20楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 wccd(wccd) 发表:
ICP 是液体样品，DC是固体样品，两者确实不太好比，DC是直接激发，r f 是间接激发，所以从功率转换效率来讲，DC大于r f ，当两者都以最大功率工作时，r f的耗电比DC要大一些。

RF好像有能耗。
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