主题:【讨论】rf和DC的功率那个大?比如对于钢样的分析?

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原文由 一路看风景(wangjun650413) 发表:
原子和分子氮在150keV的条件下离子注入到钛合金中所得的氮的深度剖面不到半微米。从由剖面编码电脑程序作的深度剖面的模拟可以看出,原子注入的铁原子区域大约270nm,而分子注入却不足100nm(由于分子,离子的量是原子的两倍)。从这些试样的分析中可以得出这样的假设,所制作的试样中只有钛和氮的存在。由于这个原因,在量化过程中只分析二元体系。

怎么没看到图呢???
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原文由 一路看风景(wangjun650413) 发表:
本试验工作研究了用辉光放电光谱技术对不同表面处理的试样分析情况,所用设备为JY GD PROFILER HR,激发光源为rf和LECO GDS750的dc光源。试验结果包括以下几点:
        辉光放电光谱技术不仅能用于固体材料的元素分析,而且能够提供深度剖面的浓度变化,检测范围可从几纳米到几十微米。
        当分析传导试样时,用JY GD PROFILER HR设备的rf光源检测的结果类似于甚至好于用LECO GDS750设备的dc光源所检测的结果。
辉光放电光谱技术是一中用来研究和定量控制的有力的工具,它的表面分析的精度比的上其他的像AES和XPS的分析方法,同时具有分析时间相当短的优点。

这个结论有意思啊,不知道在那里能得到这样的文章。
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