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主题：[讨论]EDX谱中两个铜峰的高度比

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ljiang8
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发表于：2006/05/17 21:02:00 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊

我在铜基体样品的两个相邻位置上分别打了选区EDX， 发现铜的两个能量峰计数之比相差很大。
一个谱上Cu的高能峰( ~8KV)：低能峰（~0.9KV)之 高度比 约为2/3；
而另一个谱则为1/4。

这是为什么？和表面杂质厚度或形貌有关，还是和数据收集有关？请指教！谢谢
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2006/5/24 10:58:00 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
你说的选区是选点吗？
铜基体样品 那就不是纯铜了 样品如果不均匀 铜的含量也不一样 谱峰的比例应该也有波动吧

原文由 ljiang8 发表:

我在铜基体样品的两个相邻位置上分别打了选区EDX， 发现铜的两个能量峰计数之比相差很大。
一个谱上Cu的高能峰( ~8KV)：低能峰（~0.9KV)之 高度比 约为2/3；
而另一个谱则为1/4。

这是为什么？和表面杂质厚度或形貌有关，还是和数据收集有关？请指教！谢谢
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zemb
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2006/5/30 14:03:00 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
样品是否平整、光洁？电子束的入射角度及X射线的出射角度对高、低峰的比例有影响。即与样品的形貌和倾斜（电子束入射点的倾斜度）有关。
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