主题:【讨论】雾化气压力(流量)是如何影响发射强度和背景强度的?

浏览0 回复11 电梯直达
砂锅粥
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
原文由 依风1986(xurunjiao5339) 发表:
原文由 砂锅粥(czcht) 发表:
原文由 依风1986(xurunjiao5339) 发表:
原文由 砂锅粥(czcht) 发表:
原文由 依风1986(xurunjiao5339) 发表:
原文由 砂锅粥(czcht) 发表:
我们是会自己优化的,但是不知道是如何影响的。


是的

开始时,载气流量加大,进样量增多,进入ICP的量自然多,但过了一定值后,载气再加大,速度太快,使进入ICP的粒子来不及激发而冲出ICP,同时流量过大的载气也使ICP温度降低。这样发射强度也会降低,信背比也变差。
但是我发现随着雾化气压力的增大,强度到一定值之后变小,但是信背比一直在增大。?


是吗?所有元素都是?
没有,只做过Mn的。我到时确认一下,不太记得是强度随压力增大而增大,还是信背比随压力增大而增大。


好的,记得你以前说过您的MN标液一直有问题
那个问题跟这个不一样,Mn有问题是因为中间点偏大。
猜你喜欢最新推荐热门推荐更多推荐
品牌合作伙伴