主题:【求助】石英中的微量硼

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aqia
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各位大侠,我们单位需要检测高纯石英中的微量元素,包括硼。准备用HF煮,可是其中的B会和HF反应生成BF3,然后挥发掉。请问用什么办法可以去除SiO2的同时保留B呢?多谢!
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激光剥蚀 LA-ICP-MS


多谢!只是我们没有激光剥蚀。有什么化学湿法消解的方法没有?
光哥
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激光剥蚀 LA-ICP-MS


这货对石英/高纯硅(99.99%或以上)中的B以及大部分的金属无能为力。

还是传统湿法消解吧,加5ml左右的5%甘露醇,低温(不超过100度)赶酸,B会被甘露醇络合,这个温度下不会挥发。具体最高能到多少的温度,可以自行摸索下条件。
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这货对石英/高纯硅(99.99%或以上)中的B以及大部分的金属无能为力。


看你用什么类型的激光器了。如果是5倍频 266nm、4倍频 213nm激光,那基本是打不动石英的。但如果是193nm 准分子激光,情况就好得多。用大束斑60um、4Hz频率。
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光哥
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这货对石英/高纯硅(99.99%或以上)中的B以及大部分的金属无能为力。


看你用什么类型的激光器了。如果是5倍频 266nm、4倍频 213nm激光,那基本是打不动石英的。但如果是193nm 准分子激光,情况就好得多。用大束斑60um、4Hz频率。


不是激光能量的问题。其实这个我以前咨询过A的AE,主要还是基体的匹配。而匹配也不是说没有十分合适的标样,但只有NIST的玻璃来做标片。

玻璃嘛,你懂的~~这东西的各种元素含量高得很,偏巧样品中杂质含量又很低。打完玻璃要花费很长时间来冲洗整个系统。

总之,对方是认为LA没办法使用在高纯硅料和高纯石英上的。
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不是激光能量的问题。其实这个我以前咨询过A的AE,主要还是基体的匹配。而匹配也不是说没有十分合适的标样,但只有NIST的玻璃来做标片。

玻璃嘛,你懂的~~这东西的各种元素含量高得很,偏巧样品中杂质含量又很低。打完玻璃要花费很长时间来冲洗整个系统。
总之,对方是认为LA没办法使用在高纯硅料和高纯石英上的。


NIST 610/612/614 系列玻璃,再以Si作为内标,就很好啊。NIST SRM 614的微量元素含量约5ppm。
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aqia
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多谢两位!

还是湿法消解比较符合我单位的情况。我们以前是打算先用HF煮,将石英消解后再把多余的HF蒸发掉。然后加HNO3消解剩下的微量元素。如果按光哥说的:加5ml左右的5%甘露醇, 然后低温赶酸。是不是就是HF+甘露醇,然后低温蒸发到样品干了。然后加浓硝酸溶掉剩余的微量元素,其中B与甘露醇结合的络合物会被硝酸给分解不?整个过程要加盐酸不?
还请详细解答,虽然看了些文献,但入门不久,很多不懂,多谢!!
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光哥
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原文由 aqia(v2785707) 发表:
多谢两位!

还是湿法消解比较符合我单位的情况。我们以前是打算先用HF煮,将石英消解后再把多余的HF蒸发掉。然后加HNO3消解剩下的微量元素。如果按光哥说的:加5ml左右的5%甘露醇, 然后低温赶酸。是不是就是HF+甘露醇,然后低温蒸发到样品干了。然后加浓硝酸溶掉剩余的微量元素,其中B与甘露醇结合的络合物会被硝酸给分解不?整个过程要加盐酸不?
还请详细解答,虽然看了些文献,但入门不久,很多不懂,多谢!!


就我自己做过的样品:加热赶酸,不要蒸发到干,剩余湿盐状不能流动为止;然后再用2%左右的稀硝酸溶解这个湿盐状残渣;最后上机测试。

这个方法的问题在于:石英本身很难消解,而且要求加热的温度又不能高。这么一来会导致前处理的时间很长,如果环境没办法控制好的话,石英中的B其实很难做的。个人以为关键点还是在于消解过程所处的环境。

样品不多的话,可以考虑外检用GDMS来测试,虽说GDMS是半定量的,不过这个测试的精密度能符合特殊的高纯金属硅生产要求的。

PS:这个湿法消解还有另外一个问题,B和其他元素一般是分开测试的。有文章说是一个前处理后可以同时测试多个元素,到实际的批量测试阶段。我觉得只能“呵呵。。。”
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2013/10/29 15:54:36 Last edit by xsh1234567
aqia
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非常感谢光哥!

我就按照你说的方法来试试!
另外,为什么B要与其他元素分开? 我们单位的机器是Agillent 7700
wnnzl
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