主题：【讨论】压片前的研磨如何防止引入污染

原文由 lollipop(chengyi0724) 发表:
最近定性扫描一个纯物质中所含的杂质，选取了几个供应商的产品，想比较下这几家产品中所含杂质及其相对含量大小，

但用玛瑙研钵磨粉担心引入Si，用碳化钨球磨有可能引入W，所以比较头疼，问问大家有没有这方面的经验和好的意见？

原文由 仗剑少年游(yue_qiu) 发表:

原文由 lollipop(chengyi0724) 发表:
最近定性扫描一个纯物质中所含的杂质，选取了几个供应商的产品，想比较下这几家产品中所含杂质及其相对含量大小，

但用玛瑙研钵磨粉担心引入Si，用碳化钨球磨有可能引入W，所以比较头疼，问问大家有没有这方面的经验和好的意见？

看来你的材料比较硬！

什么状态？粉末还是块状？

原文由 sonne86400(sonne86400) 发表:

那不行用材料包裹下 仿制污染到样品 不知道锡箔纸行不行

原文由 lollipop(chengyi0724) 发表:

原文由 sonne86400(sonne86400) 发表:

那不行用材料包裹下 仿制污染到样品 不知道锡箔纸行不行

包着用研钵研磨？

原文由 lollipop(chengyi0724) 发表:

原文由 仗剑少年游(yue_qiu) 发表:

原文由 lollipop(chengyi0724) 发表:
最近定性扫描一个纯物质中所含的杂质，选取了几个供应商的产品，想比较下这几家产品中所含杂质及其相对含量大小，

但用玛瑙研钵磨粉担心引入Si，用碳化钨球磨有可能引入W，所以比较头疼，问问大家有没有这方面的经验和好的意见？

看来你的材料比较硬！

什么状态？粉末还是块状？

比较脆的颗粒

原文由 仗剑少年游(yue_qiu) 发表:

原文由 lollipop(chengyi0724) 发表:

原文由 仗剑少年游(yue_qiu) 发表:

原文由 lollipop(chengyi0724) 发表:
最近定性扫描一个纯物质中所含的杂质，选取了几个供应商的产品，想比较下这几家产品中所含杂质及其相对含量大小，

但用玛瑙研钵磨粉担心引入Si，用碳化钨球磨有可能引入W，所以比较头疼，问问大家有没有这方面的经验和好的意见？

看来你的材料比较硬！

什么状态？粉末还是块状？

比较脆的颗粒

如果不硬，我感觉不用考虑引入污染的问题吧？

原文由 玉米馒头(alhoon) 发表:
楼主可以实验看看，试样没那么容易被碳化钨污染，即便有的话，XRF扫描估计也看不到对应的峰，况且碳化钨引入的杂质也不仅仅是W，碳化钨也掺杂有其他金属。真要探讨碳化钨模具对试样的污染，估计得搬出MS吧。