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主题：【原创】ICP测试Si如何消除记忆效应？

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wow0aa

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发表于：2014/08/01 11:19:20 楼主管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

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ICP测试Si如何消除记忆效应？

推荐答案：勤学苦练回复于2014/08/01

多用空白冲洗几篇吧!
你们的雾化器耐酸吗？

补充答案：

光哥回复于2014/08/01

多半是待测溶液的基质不符，导致硅不稳定在管路中分解而附着吧？
之前我们ICPMS用的混标里面，含硅的标液基体是“Tr-HF/HNO3”（痕量的HF+HNO3）

sonne86400回复于2014/08/13

国外实验室目前在理想情况下前处理实验室环境机器最优情况下 icp 做si都可以做到4ppb水准

ll001回复于2014/11/04

关键是除去残留和清洗时间保持稳定即可
干净了测起来就会准

守一回复于2014/11/07

可以测，环境条件要控制好，容易污染

该帖子作者被版主 勤学苦练加 2积分， 2经验，加分理由：鼓励发帖

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2014/8/1 13:25:04 沙发管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

多用空白冲洗几篇吧!
你们的雾化器耐酸吗？

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一网打尽

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2014/8/1 13:29:04 板凳管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

ICP能测硅吗？有难度啊。

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风住尘香

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2014/8/1 17:08:49 马扎管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

不好测的，检出限比较大

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2014/8/1 18:24:57 地毯管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

si也有记忆效应啊?

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依风1986

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2014/8/1 23:01:43 地板管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

貌似就是残留问题吧！

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光哥

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2014/8/1 23:55:13 6楼管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

多半是待测溶液的基质不符，导致硅不稳定在管路中分解而附着吧？
之前我们ICPMS用的混标里面，含硅的标液基体是“Tr-HF/HNO3”（痕量的HF+HNO3）

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abcpgf

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2014/8/2 14:20:02 7楼管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

这个要冲洗久一点，可以测的。

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sonne86400

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2014/8/13 15:43:27 8楼管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

国外实验室目前在理想情况下前处理实验室环境机器最优情况下 icp 做si都可以做到4ppb水准

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2014/8/13 15:44:18 Last edit by sonne86400

ll001

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2014/11/4 14:42:23 9楼管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

关键是除去残留和清洗时间保持稳定即可
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守一

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2014/11/7 22:19:53 10楼管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

原文由 一网打尽(v2817618) 发表:

ICP能测硅吗？有难度啊。

可以测，环境条件要控制好，容易污染

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手机版： ICP测试Si如何消除记忆效应？

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