主题：【咨询】ICP-AES测定硅铝合金中Pb的峰向右偏离

原文由 依风1986(xurunjiao5339) 发表:

原文由v2925757发表：

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标准品没什么问题吧？应该是基体干扰啊！该波长附近是否有干扰，能否上谱图？

标准溶液没问题，后来分析了一下应该是铝硅合金里的硅含量太高（百分之二十多），有干扰，基体匹配只做了铝基体和钠基体的匹配。波长附近无干扰。图的话拷着比较麻烦，所以不能传上来。

那得消除硅干扰

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标准品没什么问题吧？应该是基体干扰啊！该波长附近是否有干扰，能否上谱图？

标准溶液没问题，后来分析了一下应该是铝硅合金里的硅含量太高（百分之二十多），有干扰，基体匹配只做了铝基体和钠基体的匹配。波长附近无干扰。图的话拷着比较麻烦，所以不能传上来。

那得消除硅干扰

怎么消除呀？难道先加HF把Si赶走？？？

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标准品没什么问题吧？应该是基体干扰啊！该波长附近是否有干扰，能否上谱图？

标准溶液没问题，后来分析了一下应该是铝硅合金里的硅含量太高（百分之二十多），有干扰，基体匹配只做了铝基体和钠基体的匹配。波长附近无干扰。图的话拷着比较麻烦，所以不能传上来。

那得消除硅干扰

怎么消除呀？难道先加HF把Si赶走？？？

有些软件自带的消除软件，建立模型，排除干扰

原文由 jiangwibo(jiangwibo) 发表:
楼主纠结了，做的类似能力验证的样品吗？铝硅合金针对不同的元素用不同的消解方法，我以前做的时候都是先碱溶后酸化，不过我测的是低硅的铝合金。楼主找有AAS的给你测下，对比下结果更好些。

原文由 千层峰(jxyan) 发表:
ICP测铝合金中的铅，确实干扰较大，结果偏低。

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标准品没什么问题吧？应该是基体干扰啊！该波长附近是否有干扰，能否上谱图？

标准溶液没问题，后来分析了一下应该是铝硅合金里的硅含量太高（百分之二十多），有干扰，基体匹配只做了铝基体和钠基体的匹配。波长附近无干扰。图的话拷着比较麻烦，所以不能传上来。

那得消除硅干扰

怎么消除呀？难道先加HF把Si赶走？？？

有些软件自带的消除软件，建立模型，排除干扰

我们的一起比较老，没那么高级的。