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原文由 haeckel 发表:
各位高手，我最近看了一些有关ICP-MS原理的一些书，其中有一些东西不大明白，可能对你们来说很菜，请赐教！
1. 什么是射频？射频发生器起什么作用，对ICP有什么影响？
2. ICP中载流气、辅助气和冷却气可以是同一种气体吗？
3. 反射功率是什么意思？它逐渐增大是什么原因造成的？
请高手指点，感谢先！
原文由 古道西风瘦马(handc) 发表:请问辅助气的作用是什么呢
1。提供高能量的高频电能，说到底就是一个高频振荡器。
2。一般ICP中的三种气体都是用的氩气，有时候为了做有机样品，会加入附加气体氧气，帮助有机物分解；还有些ICPMS用He气做载气，不过成本太高，只用于做一些特殊的样品。
3。高频电能通过耦合线圈产生高频电磁场，从而输送稳定的高频电能给plasma，但是耦合线圈并不能完全吸收所有的功率，就会有部分功率被反射回功率放大器，这就是反射功率。反射功率增大的主要原因是由于plasma不稳定造成的，具体因素可能是炬管粘污，锥脏了，高频屏蔽不好，功率放大器工作不稳定，耦合电容不稳定等等。
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谢谢高手指点，讲的比较清楚，我基本明白，那看来反射功率增大很难判定是具体哪一个地方出了问题，不过最近仪器还好，大概是15w，好像最好小于10，但不要超过30W
