主题:【求助】据说热电出了一款全ccd的光谱仪?不知道论坛可有老师有资料啊,分享一下呗~~

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东亚醋王胡森塞
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没听说过呢,是这个吗http://www.instrument.com.cn/news/20040709/003959.shtml好久了呢
ngh
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ARL QUANTRIS高性能CCD金属分析仪简介



金属分析领域的领先者-Thermo 
  在长达70多年的发展中,Thermo(前ARL)不断率先推出创新的光谱仪技术和具有独创性的仪器,推动了世界光谱技术的发展.Thermo始终以技术和信誉占居世界光谱仪的主要市场,其仪器以技术先进,稳定,可靠,耐用而著称于世.从而铸就了Thermo在光谱分析领域中牢因的领先者地位 
    ARL QUANTOMETER是1940年用于金属产品控制的首台直读光谱仪.随后,Thermo又生产出每一台分析CNS的光谱仪.ARL QUANTOMETER的生产历史长达30年,它的成功和广泛应用最终使其成为一个通用的名词(Quantometer-光谱分析仪,光电直读仪) 
    Thermo在光谱仪技术上取得了一系列的突破,最新推出的采用高性能CCD技术的高端产品ARL QUANTRIS具有检测限低和稳定性好特点.而且能免灵活分析各种金属样品中的合金元素和微量元素,如钢铁,铝合金,铜合金等.此外,ARL QUANTRIS是每一台能够分析低碳,低硫,低磷和低氮的CCD学谱仪.该仪器既具有CCD技术的优势(灵活性高,仪器外形小巧),又具有较高的分析性能. 
全谱波长范围覆盖从129至780nm,包含了金属行业全部所而分析元素. 
三个独立的分光室提供了全波段光谱,在各个组件中分别使用特制的透镜,光栅和CCD涂层,以获得最好的集光效果. 
三个分光室全部彩光传输准备率最高的直读方式工作,而不使用光纤(光纤会降低分析性能,而且每隔一段时间需要更换). 
所先用的CCD系专门为工业,科学与军事用途而设计的 
第一台彩霞专得电流控制光源(CCS)的CCD光谱仪,这种光源在各种基本分析中具有最佳分析性能. 
金属产品质量控制的可靠设备 
ARL QUANTRIS有心脏部分    真空型分光室由铸铁整体浇注而成, 坚因耐用,提供了无可比似的短期和长期稳定性. 
电制冷技术,将CCD的温度控制在5±0.50C以内,降低了测量噪声,提高了稳定性. 
水冷激发台进一步增强了分析稳定性, 
自动光学光学调整与谱线描迹减省了仪器漂移与校正次数。
上述设计,使该仪器除了用于实验室应用外,还能广泛用于炉前环境。

主要特点

● 分析应用覆盖面广泛 
● 在有新的分析需求时,仪器在增加新的分析任务上所花费的停机时间短, 
● 分析金属中微量和主量元素都具有杰出的性能 
● 突出的分析稳定性减少了仪器漂移校正的时间,省出更多的时间用于分析生产样品和其它样品,同时也减少了价格昂贵的标准样品的消耗。 
● 稳定睥分析系统日复一日,年复一年地提供快速,准确的分析结果,也有效地保证了高水平的劳动生产率。总的来说,在温长的仪器使用周期里,分析成本是相当低廉的。 
● 与传统仪器相比,不受通道及基体限制。 
交钥匙模式 
作为最常见的应用,ARL QUANTRIS采用交钥匙方式,该系统在出厂前就已预先配置和校准确性完毕: 
● Thermo 推荐分析程序,分析元素和所需的校准。 
● 也可按用户需求,增加选项元素和校准。
  准确度是真读光谱最重要的特性之一,取决于仪器的校准状况。用ARL CARL校准程序(一种能够校准基体干扰和谱线干扰的多变量回归软件工具)完成的工厂校准,保证了最高准确度的获得。 
  带有CARL仪器可大安装的当天就能直接用来分析试样。 
  水冷激发台保证了分析的高稳定性,符合EN61010-1安全标准。便函于拆卸的结构,能使火花架的清理在5分钏内完成,激发样品产生的光直拉进入分光室,不使用光纤,因此不存在分析性能随时间下降和需要定期更换光纤的问题。 
  每个CCD检测器有8640个像素,每个像素的面积为7×9.8um,像素之间的间隔7um,检测器的温度严格控制在5±0.50C以内,保证了低器声与高稳定性,在VUV紫外分光室内,用有特殊涂层的CCD,改善分析灵敏度. 
ARL QUANTRIS采用了通溃只在高端光谱仪ARL 4460才使用的CCS光源.电流波形由计算机控制,造用于各咱类弄金属的分析.
WinOE分析软件 
    WinOE分析软件在我们常规的仪器上已使用十多年,通过定期的版本更新,已逐渐成为直读光谱仪分析金属的最强大,可靠和方便的分析应用软件. 
    WinOE完全支持新的ARL QUANTRS. 
主要功能 
● 图形化的用户界面Internet Explorer实现导引,操作和显示 
● 未知样品的常规分析 
● 通过软件快捷方式,迅速进入分析程序 
● 自动分析程序选择 
● 多变量回归,用于确定校正曲线 
● 外部结果的手动输入 
● 灵活的结果显示和打印 
● 质量检查和质量分类 
● 结果重新计算,避免不必要的样品重新分析 
● 结果贮存和简单的后处理,输出到Excel等 
● 在线SPC-Basic仪器控制 
● 仪器标准化 
● 类型标准化 
● 通过仪器警报和状态图表显示仪器控制结果 
● 灵活的样品定义 
● 用户权限的密码保护 
● 软件和仪器配置工具 
WinOE软件选择项 
● 在线Spark-DAT 
● ARLnet:LAN网络结果传输软件包 
● 通过LAN网络的远程样品定义 
● Sentry:样品输放软件 
● Compac:通过串行线将结果传达室输到远程计算机 
● Remote:通过串行线将结果传输到远程终端 
● DIA-Montor:分析结果在远程计算机上显示软件 

Exan:接收外部燃烧分析仪结果 
Metaverage:分析平均 
Charge:炉料修正计算 
SPC-Full:全图象统计过和控制软件包 
Report:以Thermo或用户定义的格式生成打印报告 
DIA2000:分析结果数据库和后处理软件包

技术参数

光谱仪:直空型,多达三个平面光学分光室,并带有各自的入射狭缝,光栅和因态电子检测器件 
焦距:200mm   
VUV分光室:波长范围129-200nm 
基本分光室:波长范围200-410nm 
可选择的碱土 
金属分光室:波长范围410-780nm 
入射狭缝宽度:15um   
检测器类型:每个分光室装有一个CCD检测器,3×8640像素VUV波段分光室所用的CCD表面涂有磷光物质CCD采用电制冷,温度控制在5±0.50C 
像素:在7um间距内,光电二级管7×9.8um 
光栅类型:象差校正凹面光栅,刻线分别为590gr/mm,1105gr/mm和3240gr/mm 
平均分辨率:VUV分光室8pm/像素,基本分光室24pm/像素,碱土金属分光室43pm/像素 
样品台:冲氩,带自循环水冷去系统 
光源 
类型:专得的电流控制光源(CCS) 

峰值电流:可编程,最大250A  平台电流:可编程,在13us步长内最大30A 
频率:最高1000Hz 
仪器控制:基于Intel386EX和NetSilicon Net+50处理器的Thermo微控制器板 
软件:在Windows平台下动行的WinOE 
机壳:带大能力冷却风扇的内置防尘保护 
环境要求 
环境温度:10-28℃ 
相对湿度:20-80% 
电压:220V±带保护接地单相电源(如果波动超过±10%,需要配备2.5VA的稳压器) 
电流:7A,包括PC机,显示器和打印机 
频率:50或60Hz 
接地电阻:<1Ω 
氩气:>99.996%,氧含量≤5ppm(高硅样品氧含量≤2ppm) 
>99.9997%,(分析低碳,氮和氧时),否则必须安装氩气净化器 
消耗 
功率:最大1.3KVA   
执行尺寸:98/37/EC机械 
73/23EEC低压材料 
89/336/EEC电磁兼容性 
尺寸与重量 :外形尺寸:1000×780×1190mm(包装尺寸:1210×920×1400mm) 
重量:330kg 
辅助设备:氩气净化系统 
稳压电源或不间断电源(UPS)

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2016/3/1 8:21:19 Last edit by wccd
wccd
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原文由 光电魔方(cxcszm) 发表:
价格怎么样
高中低都有,好像主推中端产品,价格不是太清楚。那天好好地去研究一下!
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2016/2/25 7:34:35 Last edit by wccd
东亚醋王胡森塞
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原文由 wccd(wccd) 发表:




ARL QUANTRIS高性能CCD金属分析仪简介



金属分析领域的领先者-Thermo 
  在长达70多年的发展中,Thermo(前ARL)不断率先推出创新的光谱仪技术和具有独创性的仪器,推动了世界光谱技术的发展.Thermo始终以技术和信誉占居世界光谱仪的主要市场,其仪器以技术先进,稳定,可靠,耐用而著称于世.从而铸就了Thermo在光谱分析领域中牢因的领先者地位 
    ARL QUANTOMETER是1940年用于金属产品控制的首台直读光谱仪.随后,Thermo又生产出每一台分析CNS的光谱仪.ARL QUANTOMETER的生产历史长达30年,它的成功和广泛应用最终使其成为一个通用的名词(Quantometer-光谱分析仪,光电直读仪) 
    Thermo在光谱仪技术上取得了一系列的突破,最新推出的采用高性能CCD技术的高端产品ARL QUANTRIS具有检测限低和稳定性好特点.而且能免灵活分析各种金属样品中的合金元素和微量元素,如钢铁,铝合金,铜合金等.此外,ARL QUANTRIS是每一台能够分析低碳,低硫,低磷和低氮的CCD学谱仪.该仪器既具有CCD技术的优势(灵活性高,仪器外形小巧),又具有较高的分析性能. 
全谱波长范围覆盖从129至780nm,包含了金属行业全部所而分析元素. 
三个独立的分光室提供了全波段光谱,在各个组件中分别使用特制的透镜,光栅和CCD涂层,以获得最好的集光效果. 
三个分光室全部彩光传输准备率最高的直读方式工作,而不使用光纤(光纤会降低分析性能,而且每隔一段时间需要更换). 
所先用的CCD系专门为工业,科学与军事用途而设计的 
第一台彩霞专得电流控制光源(CCS)的CCD光谱仪,这种光源在各种基本分析中具有最佳分析性能. 
金属产品质量控制的可靠设备 
ARL QUANTRIS有心脏部分    真空型分光室由铸铁整体浇注而成, 坚因耐用,提供了无可比似的短期和长期稳定性. 
电制冷技术,将CCD的温度控制在5±0.50C以内,降低了测量噪声,提高了稳定性. 
水冷激发台进一步增强了分析稳定性, 
自动光学光学调整与谱线描迹减省了仪器漂移与校正次数。
上述设计,使该仪器除了用于实验室应用外,还能广泛用于炉前环境。

主要特点

● 分析应用覆盖面广泛 
● 在有新的分析需求时,仪器在增加新的分析任务上所花费的停机时间短, 
● 分析金属中微量和主量元素都具有杰出的性能 
● 突出的分析稳定性减少了仪器漂移校正的时间,省出更多的时间用于分析生产样品和其它样品,同时也减少了价格昂贵的标准样品的消耗。 
● 稳定睥分析系统日复一日,年复一年地提供快速,准确的分析结果,也有效地保证了高水平的劳动生产率。总的来说,在温长的仪器使用周期里,分析成本是相当低廉的。 
● 与传统仪器相比,不受通道及基体限制。 
交钥匙模式 
作为最常见的应用,ARL QUANTRIS采用交钥匙方式,该系统在出厂前就已预先配置和校准确性完毕: 
● Thermo 推荐分析程序,分析元素和所需的校准。 
● 也可按用户需求,增加选项元素和校准。
  准确度是真读光谱最重要的特性之一,取决于仪器的校准状况。用ARL CARL校准程序(一种能够校准基体干扰和谱线干扰的多变量回归软件工具)完成的工厂校准,保证了最高准确度的获得。 
  带有CARL仪器可大安装的当天就能直接用来分析试样。 
  水冷激发台保证了分析的高稳定性,符合EN61010-1安全标准。便函于拆卸的结构,能使火花架的清理在5分钏内完成,激发样品产生的光直拉进入分光室,不使用光纤,因此不存在分析性能随时间下降和需要定期更换光纤的问题。 
  每个CCD检测器有8640个像素,每个像素的面积为7×9.8um,像素之间的间隔7um,检测器的温度严格控制在5±0.50C以内,保证了低器声与高稳定性,在VUV紫外分光室内,用有特殊涂层的CCD,改善分析灵敏度. 
ARL QUANTRIS采用了通溃只在高端光谱仪ARL 4460才使用的CCS光源.电流波形由计算机控制,造用于各咱类弄金属的分析.
WinOE分析软件 
    WinOE分析软件在我们常规的仪器上已使用十多年,通过定期的版本更新,已逐渐成为直读光谱仪分析金属的最强大,可靠和方便的分析应用软件. 
    WinOE完全支持新的ARL QUANTRS. 
主要功能 
● 图形化的用户界面Internet Explorer实现导引,操作和显示 
● 未知样品的常规分析 
● 通过软件快捷方式,迅速进入分析程序 
● 自动分析程序选择 
● 多变量回归,用于确定校正曲线 
● 外部结果的手动输入 
● 灵活的结果显示和打印 
● 质量检查和质量分类 
● 结果重新计算,避免不必要的样品重新分析 
● 结果贮存和简单的后处理,输出到Excel等 
● 在线SPC-Basic仪器控制 
● 仪器标准化 
● 类型标准化 
● 通过仪器警报和状态图表显示仪器控制结果 
● 灵活的样品定义 
● 用户权限的密码保护 
● 软件和仪器配置工具 
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● 在线Spark-DAT 
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● 通过LAN网络的远程样品定义 
● Sentry:样品输放软件 
● Compac:通过串行线将结果传达室输到远程计算机 
● Remote:通过串行线将结果传输到远程终端 
● DIA-Montor:分析结果在远程计算机上显示软件 

Exan:接收外部燃烧分析仪结果 
Metaverage:分析平均 
Charge:炉料修正计算 
SPC-Full:全图象统计过和控制软件包 
Report:以Thermo或用户定义的格式生成打印报告 
DIA2000:分析结果数据库和后处理软件包

技术参数

光谱仪:直空型,多达三个平面光学分光室,并带有各自的入射狭缝,光栅和因态电子检测器件 
焦距:200mm   
VUV分光室:波长范围129-200nm 
基本分光室:波长范围200-410nm 
可选择的碱土 
金属分光室:波长范围410-780nm 
入射狭缝宽度:15um   
检测器类型:每个分光室装有一个CCD检测器,3×8640像素VUV波段分光室所用的CCD表面涂有磷光物质CCD采用电制冷,温度控制在5±0.50C 
像素:在7um间距内,光电二级管7×9.8um 
光栅类型:象差校正凹面光栅,刻线分别为590gr/mm,1105gr/mm和3240gr/mm 
平均分辨率:VUV分光室8pm/像素,基本分光室24pm/像素,碱土金属分光室43pm/像素 
样品台:冲氩,带自循环水冷去系统 
光源 
类型:专得的电流控制光源(CCS) 

峰值电流:可编程,最大250A  平台电流:可编程,在13us步长内最大30A 
频率:最高1000Hz 
仪器控制:基于Intel386EX和NetSilicon Net+50处理器的Thermo微控制器板 
软件:在Windows平台下动行的WinOE 
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环境要求 
环境温度:10-280C 
相对湿度:20-80% 
电压:220V±带保护接地单相电源(如果波动超过±10%,需要配备2.5VA的稳压器) 
电流:7A,包括PC机,显示器和打印机 
频率:50或60Hz 
接地电阻:<1Ω 
氩气:>99.996%,氧含量≤5ppm(高硅样品氧含量≤2ppm) 
>99.9997%,(分析低碳,氮和氧时),否则必须安装氩气净化器 
消耗 
功率:最大1.3KVA   
执行尺寸:98/37/EC机械 
73/23EEC低压材料 
89/336/EEC电磁兼容性 
尺寸与重量 :外形尺寸:1000×780×1190mm(包装尺寸:1210×920×1400mm) 
重量:330kg 
辅助设备:氩气净化系统 
稳压电源或不间断电源(URS)

非常详细的资料,学习了。
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