主题:【求助】做PFOA降解GC-MS检测顶端气体,发现里面有八甲基环四氧硅烷之类的物质,求帮助,没有加入任何含硅试剂

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miss夏天的夏
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安捷伦气相色谱(Agilent technologies 7890A)和质谱(Agilent technologies 5975C),柱子是HP-5MS,顶空瓶进样,谱图如下,PFOA+碳酸盐缓冲液的那个是实验的控制样,然后实验降解样出现了两个峰,用谱库查了是两个氧硅烷物质,但是整个实验过程中,没有加入任何含硅药剂,不知道为什么生成这两种物质,会是实验仪器问题或者其他原因么?求大神帮助,不胜感谢~
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原文由 GRANT(fatinsect) 发表:
是柱流失物质


不好意思,我是新手,刚开始用GC-ms 请问一下柱流失物质是什么?为什么测空白样还有超纯水都没有呢?
非常谢谢你
miss夏天的夏
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原文由 symmacros(jimzhu) 发表:
请问PFOA是什么?
是全氟辛酸,八个碳,最末端碳连接羧基,其余都是F
安平
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可能是柱子流失。请问是什么顶空器?顶空温度多少?
千层峰
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原文由 miss夏天的夏(v3087035) 发表:
不好意思,我是新手,刚开始用GC-ms 请问一下柱流失物质是什么?为什么测空白样还有超纯水都没有呢?
非常谢谢你
就是柱子本身的固定相流失出来了。。。
miss夏天的夏
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原文由 symmacros(jimzhu) 发表:
可能是柱子流失。请问是什么顶空器?顶空温度多少?
20ml顶空瓶,进样温度是28℃,测的时候的最高温度是200多℃
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