主题:【已应助】求版友帮忙解答TSQ Quantum 液质联用的些许问题~感激不尽~

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JokerCola
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设备型号:TSQ Quantum LC/MS/MS


所用离子源类型:HESI


背景:由于皮下公司人员调整,皮下硬着头皮接手了这台QQQ,皮下之前三年做的都是A家的GC/MS,对于Thermo家的设备操作几乎是门外汉,只会照葫芦画瓢的基本执行步骤,上一位设备操作人员在离职前详细的教授了半个月,皮下类比这GC/MS也尽力地去理解,但是毕竟一些设备原理和操作软件上都有很大的不同,而且由于平时工作量的问题,也没有对QQQ进行了解,所以完全不得法。这一个多月有在对着操作手册了解设备,但是毕竟缺乏实践经验,遇到了些问题。特上来求助版友们。
主诉:
1、节前一周左右,对照操作手册尝试校正设备,但是实现不了手册上所谓的稳定气流状态,且182响应度不是太好,不过自动校正是可以通过的,请问这样是可以正常使用么?(离子源位于C档)


2、离子源的A、B、C档是可以随便调节的吗?之前操作是只在校正的时候调到B档,平时做样品都用C档,这样可以么?这样岂不是校正的状态跟使用的状态不同了么?


3、请问,这台设备清洁维护的时候都应该怎么做,手册上写的太简略了,也没有找到像A家GC/MS那种指导视频,不知道版友们能不能帮忙告知详细的维护步骤,包括LC部分和MS部分的清洁等。



Orz 各位热心的版友多帮忙了~~~谢谢~~~
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hujiangtao
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JokerCola
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原文由 hujiangtao(hujiangtao) 发表:
朝工程师要啊
斑竹好,可能是我之前弄GCMS留下的习惯,小的问题我基本不咨询工程师,感觉如果能找到方法的话就自己解决,因为好些问题感觉是我自己对设备的理解不足,而不是设备自身的问题。不晓得斑竹有没有这个设备进样喷针(是这么叫吧?)那部分的清理方法呢~~
hujiangtao
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支点
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A,B,C的位置是看你的流动相流速定的,包括源上的气体流量设置。校准和使用的时候用的流速不一样所以位置不一样,但是优化的是质谱内部的参数与位置关系不大。
JokerCola
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原文由 hujiangtao(hujiangtao) 发表:
俺们是W家的仪器
哦哦~~感觉关于thermo家QQQ的一些使用心得在这儿不是很多,之前A家GCMS的相关就很多~~哎,之后还要进他家的GCMSMS,我这个[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Yp]LCMSMS还是报个培训班吧,感觉欠缺的太多。
JokerCola
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原文由 支点(zhx_fs_ln) 发表:
A,B,C的位置是看你的流动相流速定的,包括源上的气体流量设置。校准和使用的时候用的流速不一样所以位置不一样,但是优化的是质谱内部的参数与位置关系不大。
哦,所以是可以这样理解么?B档和C档调谐时候是有各自相应的状态设置,校正就是看下设备是否正常,所以说哪个档位都可以,只要调整好参数就行~是这样么?
支点
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差不多就是这个意思,只是一般校正时泵流速很低就用B
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