主题:【求助】求助,高精度ICP MS机台求教!

浏览0 回复6 电梯直达
p3157165
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各位大大:
        我们计划购买一台ICP MS测量硅片表面各种金属离子浓度,因为在这方面是完全小白,求助各位大神;
        测量对象:硅
        测量指标:5E10/cm2(最好精度能达到1E11);
        要求:操作简便,分析数据准确,易维护;
        请问业界那些ICP MS可以满足;
        小弟不胜感激!
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wolfly2007
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ICP-MS各家都有测多晶硅的模块,应该是都能满足,不过价格较普通的要高,无非就是那几大家在做ICP-MS,thermo,PE,耶拿等等
gz07apple
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楼上在瞎扯,人家要测得是wafer表面杂质金属,跟多晶硅有个毛关系。。。
浪花泉
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siri
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光哥
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原文由 wolfly2007(wolfly2007)发表:ICP-MS各家都有测多晶硅的模块,应该是都能满足,不过价格较普通的要高,无非就是那几大家在做ICP-MS,thermo,PE,耶拿等等


多晶硅的表金属、体金属测试,与wafer表面金属测试方法上差得很远。这位仁兄应该是没接触过这个吧
顺便放一篇文章供参考
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2017/5/26 15:48:47 Last edit by xsh1234567
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