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扫描探针显微镜SPM/AFM

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仪器社区 > 显微镜 > 扫描探针显微镜SPM/AFM 帖子详情

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主题：【讨论】请教AFM基底片清洗问题

浏览0 回复6 电梯直达

coco

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发表于：2006/12/03 16:34:00 楼主管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

请教论坛里用过单晶硅片作AFM制样基底片的朋友,你们是怎么清洗用过的硅片滴呢?

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2006/12/4 0:46:00 沙发管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

论坛里已经有了，请参考

http://www.instrument.com.cn/bbs/shtml/20060404/382395/

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coco

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2006/12/8 9:08:00 板凳管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

好,谢谢版主.进去看看先.

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mahua2006

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2006/12/20 12:42:00 马扎管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

谢谢。。。。。。。

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yybear

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2006/12/27 11:05:00 地毯管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

我们都是用浓硫酸双氧水７：３沸水浴３０分钟．

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jeasy

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2007/1/3 12:06:00 地板管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

原文由 zhjclock 发表:
论坛里已经有了，请参考

http://www.instrument.com.cn/bbs/shtml/20060404/382395/

讨论过了，很详细

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清风侠

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2007/1/4 11:33:00 6楼管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

也可以参考分子束外延MBE版的帖子：http://www.instrument.com.cn/bbs/shtml/20061024/600723/

Si上外延生长薄膜通常上面的一层SiO2的去除非常关键，而完全的消除其影响是不可能的，我们只能减小其影响。方法如下：
1。基片清洗：除常规的酒精丙酮去离子水超声外，还要用到双氧水+盐酸和双氧水+氨水的两种酸碱溶液，此外稀释的氢氟酸中浸泡几秒钟可以有效的去除SiO2层。
2。真空热处理：Si片高真空下2小时500度左右退火，有效减少SiO2.
文献中有报道，参考之。

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