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主题：【求助】有关硅烷站工艺系统的探讨

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发表于：2019/09/10 10:39:30 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
关于硅烷站工艺系统的探讨

硅烷即硅与氢的化合物，是一系列化合物的总称，包括甲硅烷( SiH4) 、乙硅烷( Si2H6) 和一些更高级的硅氢化合物。目前应用最多的是甲硅烷。一般把甲硅烷简称做硅烷。
硅烷作为一种提供硅组分的气体源，可用于制造高纯度多晶硅、单晶硅、微晶硅、非晶硅、氮化硅、氧化硅、异质硅、各种金属硅化物。 因其高纯度和能实现精细控制，已成为许多其他硅源无法取代的重要特种气体。硅烷广泛应用于微电子、光电子工业， 用于制造太阳电池、平板显示器、玻璃和钢铁镀层， 并且是迄今世界上唯一的大规模生产粒状高纯度硅的中间产物。硅烷的高科技应用还在不断出现, 包括用于制造先进陶瓷、复合材料、功能材料、生物材料、高能材料等等，成为许多新技术、新材料、新器件的基础。硅烷又以它特有的自燃、爆炸性而著称。硅烷有非常宽的自发着火范围和极强的燃烧能量，决定了它是一种高危险性的气体。
硅烷站工艺系统探讨：
硅烷站应该根据工艺要求、当地气候状况、硅烷设备状况选择采用封闭式、开敞式、露天式进行布置。其工艺系统设计应根据下列因素确定：
n 硅烷站的规模
n 硅烷的物理化学性质
n 当地硅烷供应的充装、运输状况
n 用户对硅烷纯度、压力、负荷变化的要求。
硅烷由于其极其危险的化学性质，对于其系统架设提出了更高的要求。近年来，很多半导体生产厂家都曾不同程度的暴露出硅烷使用中不合理而发生的一系列事故等。这就需要在设计初期极其严苛的要求，施工中100%的执行，竣工后的严格检测等。
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