主题:【分享】【实战宝典】半导体ICP-MS分析用到的样品瓶如何清洗?

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问题描述:半导体ICP-MS分析用到的样品瓶如何清洗?
解答:
通常,半导体样品中痕量金属含量非常低,低的空白是质量控制的重要方面。空白来源多样,其中之一就是分析时使用到的器皿。PFA , LDPE等样品瓶应用广泛,其沾污的控制对于半导体ICP-MS分析至关重要。在样品瓶用于半导体样品分析时,需要进行合理的清洗。

典型样品瓶清洗步骤如下:

5%硝酸(HNO3)浸泡一周

5%盐酸(HCl)浸泡一周

5%氢氟酸(HF)浸泡一周

超纯水(UPW)浸泡一周

超纯水(UPW)装满容器拧紧瓶盖

以上内容来自仪器信息网《ICP-MS实战宝典》
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瑞尼克苏阳
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瑞尼克苏阳
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原文由 瑞尼克苏阳(v3027478) 发表:
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