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主题：【求助】这样翻译对吗？请指教

浏览0 回复4 电梯直达
jinruchen
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发表于：2007/05/06 13:12:00 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
Because  the  heater  were 3mm  long.  They  often  stuck  to  the  surface  after the  release.  This  was  due  to  capillary  forces  from  the  rinse  the  release.  To  alleviate  this  problem,  a  DI  water/ IPA/ DI  wafer /  IPA  rinse  was  incorporated  followed  by  a  200℃  bake  on  a  hot  plate  to  suspend  the  structures.
因为加热器3mm长，它们时常固定在释放 后的表面上，这个释放是用毛细管人工冲洗转移出的。为了减轻难度用去离子水/异丙醇/去离子水晶片/异丙醇冲洗，在一个热的阳极盘上烘。
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2007/5/7 14:30:00 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
不知这是哪个专业的?不提供上下文,不知道这里的release是什么,是放热吗?说一下个人意见:
stuck to翻译成"吸附,黏附"较好.
capillary  force应该是"毛细管力".我觉得the  rinse和the  release之间好像是少了一个after,中文意思是这样的:因为加热器长3mm，淋洗时产生的毛细管力使它们在release后时常黏附在表面上.
To  alleviate  this  problem……:为解决这个问题,用去离子水/异丙醇/去离子水晶片/异丙醇冲洗，然后于200摄氏度在热板上烘烤,使加热器与表面分离.
suspend是(使)悬空/中断等意思,这里结合上下文来看,应该是指使加热器不再黏附于表面.
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2007/5/8 22:31:00 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
谢谢版主！
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何当奇
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2007/5/9 10:50:00 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 jinruchen 发表:
Because  the  heater  were 3mm  long.  They  often  stuck  to  the  surface  after the  release.  This  was  due  to  capillary  forces  from  the  rinse  the  release.  To  alleviate  this  problem,  a  DI  water/ IPA/ DI  wafer /  IPA  rinse  was  incorporated  followed  by  a  200℃  bake  on  a  hot  plate  to  suspend  the  structures.
因为加热器3mm长，它们时常固定在释放 后的表面上，这个释放是用毛细管人工冲洗转移出的。为了减轻难度用去离子水/异丙醇/去离子水晶片/异丙醇冲洗，在一个热的阳极盘上烘。

Because 后应该还有个所以吧？句号是不是应该为逗号？
这句话应该有个上下文，放在一起会理解的更加家准确一些。
这个释放是用毛细管人工冲洗转移出的。这句，也好像不太对
最好整句贴出来
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jinruchen
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2007/5/10 17:55:00 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
The  remaining  aluminum  was  then  pattern  and  etch  to  from  contacts  on  the  polysilicon  heaters  and  electrodes.
Finally  the  structures  were  released  in  a  49% HF  etch..
Because  the  heater  were 3mm  long.  They  often  stuck  to  the  surface  after the  release.  This  was  due  to  capillary  forces  from  the  rinse  ofter the  release.  To  alleviate  this  problem,  a  DI  water/ IPA/ DI  wafer /  IPA  rinse  was  incorporated  followed  by  a  200℃  bake  on  a  hot  plate  to  suspend  the  structures.
剩余的铝是模式也是多晶硅上加热器和电极的触点。最后是在49%浓度的氟氢酸中刻蚀形成结构。
因为加热器3mm长，淋洗时产生的毛细管力使它们在形成后时常粘附在释放后的表面上，为了解决这个问题用去离子水/异丙醇/去离子水晶片/异丙醇冲洗，然后在200℃的热板上烘烤，使加热器与表面分离。
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