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主题：【讨论】低真空二次电子检测原理及探头类型

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chenjianfeng
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2007/11/4 21:42:00 12楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
样品表面的污染主要是看样品室中的气体中不易挥发性物质的存在量，如果不引入这些物质，样品表面是不会增加污染程度的。
使用LFD的时候情况恰好相反，污染物的积累速度反倒比高真空的时候好得多，尤其是在一些导电性较差的样品表面，比如石英，玻璃等。
有这种探头的人可以试试。
原文由 kapabulanka 发表:
看懂了一部分，探测器施加了正电场，给二次电子加速。作环扫时如何能够保证环境气体的洁净呢？真空度低时样品表面的污染会不会很快。会不会同低电压时一样，样品很快变黑。
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