主题：【求助】样品喷镀金属于二次电子像关系

原文由 eigen 发表:
首先说明一下，我是新手，正在学习阶段，说错的麻烦毫不客气的指出啊:)

二次电子的产率主要只跟样品的表面形貌有关吧，所以用二次电子像来表征形貌；SEM里的各种探头中，只有二次电子探头能够主动的吸附二次电子，其他几种探头都是被动的吧；另外背散射探头的位置比较特殊，因为背散射电子本身方向是比较特殊的，而二次电子在各个方向都会有。

原文由 amoslau 发表:
如果市场需要，各大厂家都会提供能够得到纯二次电子像、纯背散射电子像的In-Lens、Through-Lens或Uper探头。

原文由 RENXIN 发表:

原文由 amoslau 发表:
如果市场需要，各大厂家都会提供能够得到纯二次电子像、纯背散射电子像的In-Lens、Through-Lens或Uper探头。

说得不对，目前市场上只有ZEISS能够做到纯背散射电子像，没有竞争对手。
ZEISS也是第一个做纯二次电子像的INLENS探头的，其余的厂家最后跟上。但以为专利限制，只能另起他名。

原文由 RENXIN 发表:

原文由 amoslau 发表:

原文由 RENXIN 发表:
再请问为什么二次电子检测器会探测到背散射电子呢，如果这个问题您不屑回答的话，请问是否有可能二次电子检测器只看二次电子，背散射电子检测器只看背散射电子呢。

嘿嘿，当然能了，Zeiss的二次电子探测器就可以只看二次电子啊，具体什么原理还要请大虾明示，我去找只笔记下来学习学习！高能过滤？自己瞎猜不要见笑！

猜对了一半。
能量过滤装置使  背散射探头只看背散射电子。
静电透镜设计使得二次电子探头只关心真正的二次电子， 产生纯二次电子像。
低端的二次电子探头其实是 ET探头， EVERHART 和 THOELEY 先生的发明，以讹传讹， 不知道怎么就叫成  二次电子探头了。
不得不承认这一点FEI做得很好， ET探头叫ETD，不叫SED。

原文由 dkdfcd 发表:
一般来说，在样品表面镀金主要是为了使不导电样品表面导电，以消除样品的充电效应。
样品表面镀金，增加了样品表面材料的原子序数，减小了电子束与样品的作用范围，这样可以提高分辨率，也就是更容易调出清晰的图像，并不是二次电子有多大的增加。学到了。

原文由 共工(RENXIN) 发表:
俺在努力中，估计22世纪可以了