主题:光谱校正原理之一----离峰校正法

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tzl75
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(1)离峰校正法:是一种经典的校正方法,主要用于简单光谱背景干扰情况和简单元素谱线干扰的校正,常用的有离峰单点,两点,多点等校正方法。当波长漂移比较大、背景分布不均匀时,测量得到的背景值有时与谱线位置的数值不一致,此时采用离峰校正法将会引起比较大的误差,因此如果存在上述情况,建议不应使用此法校正。
由于背景的存在,使分拆线信号测量值产生正的偏离,对于发射法而言,设Ix为分析线发射强度,Ib为背景发射强度,则谱线的表观强度(Ix+b)为
    Ix+b=Ix+Ib                                (1)

    Ix=Ix+b-Ib(注意我们用ICP分析时就用Ix做标准曲线的)
一般用谱线与背景的强度比的对数表示:
    Log(Ix/Ib)=Log[(Ix+b/Ib)-1]                (2)
可见,只要测出Ix+b/Ib并减去1,然后取对数即可得到Log(Ix/Ib)。由于Ib是不随分析物浓度变化的常数,故Log(Ix/Ib)一般可以代替IogIx使用。无论光电法或摄谱法,背景强度Ib均在离峰位置(Ix+b为峰值位置表观强度)进行测量。对于光电法,离峰位置可由置于光路中的往复振荡的石英折射板来控制(现代商业仪器多采用计算机控制)。而对于摄谱法,背景强度Ib系通过照相参量Pb来度量,离峰位置视背景轮廓而定,对于均匀背景,背景值可选谱线任一边的数值来提供,而对于不均匀的背景轮廓,则应预先了解背景分布情况,而后确定测量位置并以谱线两边背景平均值作为背景值加以扣除,式(2)中Ix+b/Ib值可以方便的由乳剂校正曲线读出的Log(Ix+b/Ib)得到。

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wzz18
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