原文由 ijingle 发表:
原文由 suppressor 发表:
抑制柱再生过程中能用水将硫酸再生液冲洗干净么?按理说,多少都应该会有残留的。
说起来,你们配制淋洗液和再生液时会不会硫酸交叉污染了,或者其他过程中没注意再生液污染到了?
溶液配制过程,不太会出问题。这个问题很好解决,重复配制应该就能解决问题。
我的疑问是:三支抑制柱切换着工作,一个在抑制,一个在再生,一个在冲洗,是这样的状态吧?
再生的时候使用硫酸作为再生液,在冲洗过程中,能否将抑制柱上的硫酸根冲洗完全?如果稍有残留,虽然不会影响常量分析,但对痕量分析结果肯定影响很大的。