主题:【已应助】碳钢和低合金钢中的酸溶硅和总硅区别在哪里?不同测试方法之间区别有多大?

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放学不回家
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碳钢和低合金钢,我看了下ICP-OES标准,20125里面规定了Si最大定量范围上限是0.6% , 直读GB/T 4336里面Si上限是1.20%  ASTM E415是1.54% ,化学湿法GBT 223.5总硅也才1%。

1.如果我有一个材料Si做出来是1.9% ,有什么办法可以盖CNAS和CMA章吗?

2.还有ICP做出来的酸溶硅和直读的总硅差距会有多少?比如1.90的含量,有小伙伴试过吗?
推荐答案:dahua1981回复于2021/09/02
1.如果我有一个材料Si做出来是1.9% ,有什么办法可以盖CNAS和CMA章吗?
这种情况下只能通过ICP方法消解后稀释再测,就可以满足盖章要求了。
2.还有ICP做出来的酸溶硅和直读的总硅差距会有多少?比如1.90的含量,有小伙伴试过吗?
这个不好说,各有优缺点吧
两种仪器原理相同,但是发射光谱原理;
不同点:
一、ICP必须是液体通过蠕动泵进样,即所有的样品都需要酸消解后才能分析;光电直读光谱分析的样品是块状金属,要求表面光洁并且具有一定的致密程度(例如中间合金就无法分析)
二、ICP分析范围包括:金属、非金属、固态、液态,单基本都需要前处理;光电直读只能分析块状金属
三、ICP与光电直读的分析时间大约都在1分钟之内,但ICP样品需要较长的前处理时间,所以ICP大多数时间主要用来成分分析,同时可以作为仲裁结果;直读光谱的前处理比较简单,所以分析速度快,可以作为生产的质量中间控制环节,单结果不能作为仲裁
四、标样,ICP可通过标准溶液配置标样,灵活性较强;光电直读因为是分析块状金属,所以标样也必须是块状的,所以标样相对来说灵活性差,基本上都需要购买,除非你单位有超强的实力可以自行制作

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1.如果我有一个材料Si做出来是1.9% ,有什么办法可以盖CNAS和CMA章吗?
检测报告盖CNAS和CMA章,相关的检测方法,需要经过CNAS认可和CMA让证才可以哦。

dahua1981
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1.如果我有一个材料Si做出来是1.9% ,有什么办法可以盖CNAS和CMA章吗?
这种情况下只能通过ICP方法消解后稀释再测,就可以满足盖章要求了。
2.还有ICP做出来的酸溶硅和直读的总硅差距会有多少?比如1.90的含量,有小伙伴试过吗?
这个不好说,各有优缺点吧
两种仪器原理相同,但是发射光谱原理;
不同点:
一、ICP必须是液体通过蠕动泵进样,即所有的样品都需要酸消解后才能分析;光电直读光谱分析的样品是块状金属,要求表面光洁并且具有一定的致密程度(例如中间合金就无法分析)
二、ICP分析范围包括:金属、非金属、固态、液态,单基本都需要前处理;光电直读只能分析块状金属
三、ICP与光电直读的分析时间大约都在1分钟之内,但ICP样品需要较长的前处理时间,所以ICP大多数时间主要用来成分分析,同时可以作为仲裁结果;直读光谱的前处理比较简单,所以分析速度快,可以作为生产的质量中间控制环节,单结果不能作为仲裁
四、标样,ICP可通过标准溶液配置标样,灵活性较强;光电直读因为是分析块状金属,所以标样也必须是块状的,所以标样相对来说灵活性差,基本上都需要购买,除非你单位有超强的实力可以自行制作

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原文由 tang566(tang566) 发表:
1.如果我有一个材料Si做出来是1.9% ,有什么办法可以盖CNAS和CMA章吗?
检测报告盖CNAS和CMA章,相关的检测方法,需要经过CNAS认可和CMA让证才可以哦。

这个含量已经不满足标准的范围了呀
JOE HUI
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1.如果我有一个材料Si做出来是1.9% ,有什么办法可以盖CNAS和CMA章吗?
你的一个材料Si做出来是1.9% 已经超出相关标准最大定量范围上限,可以走偏离方法认可,只要能被认可的是可以盖CNAS和CMA章,
2.还有ICP做出来的酸溶硅和直读的总硅差距会有多少?比如1.90的含量,有小伙伴试过吗?
直读光谱仪一般采用电火花,电弧或者辉光放电的方式把样品打成蒸汽进行激发的。 一般是用于在线生产的,时间要求很高,几分钟就要求有结果的。直读毕竟只是分析的表面成分,还存在一个样品均匀性的问题 。ICP必须是液体通过蠕动泵进样,即所有的样品都需要酸消解后才能分析;ICP分析范围包括:金属、非金属、固态、液态,单基本都需要前处理;直读光谱只能分析块状金属。ICP要比直读光谱的检出限小,精度高,具体差距还是要以具体不同样品去说
tang566
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原文由 放学不回家(m3229146) 发表:
这个含量已经不满足标准的范围了呀
可以通过前处理,然后稀释再测。
Ins_8299b05a
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