主题:【求助】ICP-OES测试Si含量前处理(去除HF)

浏览0 回复8 电梯直达
御风O破
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样品采用6mL硝酸+2mL氢氟酸+2mL过氧化氢,经微波消解后测试Si含量;
如何进行前处理把HF赶跑,确保ICP准确测试Si含量呢?
加入硼酸?高浓度的还是和HF一样浓度的?比例是多少?
最好有具体操作步骤和反应原理(反应方程式),谢谢啦!!有相关的标准就更好了~~

感谢!!
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JOE HUI
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如何进行前处理把HF赶跑,确保ICP准确测试Si含量呢?
加入硼酸?高浓度的还是和HF一样浓度的?比例是多少
标准是有的,不过不同行业,区别也是有的,我说的依据是CPSC-CH-E1002-08.3,此标准是玩具中非金属儿童产品的总铅测定程序,一般样品称取30-100毫克,微波消解加入3ml的浓硝酸和1ml的氢氟酸,消解结束后加入30毫升4%的硼酸,最终定容50毫升,这个30毫升4%的硼酸相对1ml的氢氟酸而言,肯定 是过量的,用以保护ICP的石英炬管等
hausa
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原文由 JOE HUI(xurunjiao5339) 发表:
如何进行前处理把HF赶跑,确保ICP准确测试Si含量呢?
加入硼酸?高浓度的还是和HF一样浓度的?比例是多少
标准是有的,不过不同行业,区别也是有的,我说的依据是CPSC-CH-E1002-08.3,此标准是玩具中非金属儿童产品的总铅测定程序,一般样品称取30-100毫克,微波消解加入3ml的浓硝酸和1ml的氢氟酸,消解结束后加入30毫升4%的硼酸,最终定容50毫升,这个30毫升4%的硼酸相对1ml的氢氟酸而言,肯定 是过量的,用以保护ICP的石英炬管等
一直有个疑问,测Si加了HF,Si不会与HF反应生成SiF4挥发到空气中影响检测结果么?
次元之暗面
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氟化硅与氟离子进一步反应可以形成氟硅酸,这是个可逆过程。然后因为加入了硼酸去络合氟离子。最后硅的存在形式是什么我都不知道。
次元之暗面
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另外借楼问一下,鄙人做了几个不同的铝合金的成分分析,方法是按照欧盟DIN 来的,用盐酸溶解,然后过滤上ICP-OES。但效果都不好。
有比光电oes法高几倍,有比光电法低几倍,就是没有一个对得上的。  消解过程使用了聚四氟乙烯烧杯并预先氢氟酸清洗再水清洗过。
次元之暗面
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原文由 JOE HUI(xurunjiao5339) 发表:
如何进行前处理把HF赶跑,确保ICP准确测试Si含量呢?
加入硼酸?高浓度的还是和HF一样浓度的?比例是多少
标准是有的,不过不同行业,区别也是有的,我说的依据是CPSC-CH-E1002-08.3,此标准是玩具中非金属儿童产品的总铅测定程序,一般样品称取30-100毫克,微波消解加入3ml的浓硝酸和1ml的氢氟酸,消解结束后加入30毫升4%的硼酸,最终定容50毫升,这个30毫升4%的硼酸相对1ml的氢氟酸而言,肯定 是过量的,用以保护ICP的石英炬管等


标准是有的,但是这些标准里不少都只是说加适量或过量硼酸络合,没有给定比例和硼酸浓度。
按化学计量数来算的,维持F:B小于3:1就差不多了。
不忘初心
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Shy WONG
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确定这样能测准Si,SiF4不是气体吗?都跑了!
Si的测试一般碱熔。
999youran
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