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主题：【求助】求USP30版气相二氧化硅的中文译稿

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茅茅
mhq111111
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2008/3/28 9:37:37 21楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 majunia 发表:
“我举个例子说明一下当量n与mol/L的关系吧：
在1mol/L的硫酸水溶液中，对于氢离子它的当量浓度就是2N，对于硫酸根离子它的当量浓度就是1N，对于整个硫酸分子来说它的当量浓度也是1N。”
请问7N硫酸是不是就是7mol/L？对于氢离子来说就是14N？硫酸根来说也是7N？

正确.
另:来自USP<467>的最新消息，从2008年7月1日起，VOI 有机挥发性杂质这一说法将不存在，只有residual sovents 残留溶剂的说法。
更新后的药典在方法学的验证将有很大改变，只有顶空进样一种方式了。
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happyjyl
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2008/3/28 9:51:25 22楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 mhq111111 发表:
另:来自USP<467>的最新消息，从2008年7月1日起，VOI 有机挥发性杂质这一说法将不存在，只有residual sovents 残留溶剂的说法。
更新后的药典在方法学的验证将有很大改变，只有顶空进样一种方式了。


茅茅姐，Organic Volatile Impurities（有机挥发杂质）更名为Residual Solvents（残留溶剂），这在USP 30里就提到了，从2007年7月1日起就生效了。（见USP30 Admissions xli）
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茅茅
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2008/3/28 11:42:22 23楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
我问了去听课的同事，他说是08年开始一定要执行。
上海就是信息中心，什么都领先许多！
不好意思仓促中把单词都拼错了。
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majunia
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2008/4/2 11:34:21 24楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
谢谢各位了。
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