主题：【讨论】大家认为ICPMS仪器设计上最需要改进的是哪些方面

原文由 chauchylan 发表:
我想主要还是进样系统吧...检测器已够灵敏了,质量分析器的真空也满足分析的要求了...无论ICP-MS还是ICP-AES,进样系统都是仪器改进的主要方向吧..

原文由 zhckj 发表:

原文由 chauchylan 发表:
我想主要还是进样系统吧...检测器已够灵敏了,质量分析器的真空也满足分析的要求了...无论ICP-MS还是ICP-AES,进样系统都是仪器改进的主要方向吧..

我觉得仪器最理想的设计系统就是能减轻操作者的工作量和达到最完美的检测要求。也就是ICP-MS 最容易出现问题和很多不能达到检测条件的部位。优化进样系统，尽力减少前处理的程序，尽可能是检测器能最大的检测所有想检测的元素，检测的范围要是能有刻度调节就好，有"尺"有"寸"，那样不必买更多的仪器来检测不同量度的同样的样品。

原文由 zhckj 发表:

原文由 chauchylan 发表:
我想主要还是进样系统吧...检测器已够灵敏了,质量分析器的真空也满足分析的要求了...无论ICP-MS还是ICP-AES,进样系统都是仪器改进的主要方向吧..

我觉得仪器最理想的设计系统就是能减轻操作者的工作量和达到最完美的检测要求。也就是ICP-MS 最容易出现问题和很多不能达到检测条件的部位。优化进样系统，尽力减少前处理的程序，尽可能是检测器能最大的检测所有想检测的元素，检测的范围要是能有刻度调节就好，有"尺"有"寸"，那样不必买更多的仪器来检测不同量度的同样的样品。

原文由 chauchylan 发表:

原文由 zhckj 发表:

原文由 chauchylan 发表:
我想主要还是进样系统吧...检测器已够灵敏了,质量分析器的真空也满足分析的要求了...无论ICP-MS还是ICP-AES,进样系统都是仪器改进的主要方向吧..

我觉得仪器最理想的设计系统就是能减轻操作者的工作量和达到最完美的检测要求。也就是ICP-MS 最容易出现问题和很多不能达到检测条件的部位。优化进样系统，尽力减少前处理的程序，尽可能是检测器能最大的检测所有想检测的元素，检测的范围要是能有刻度调节就好，有"尺"有"寸"，那样不必买更多的仪器来检测不同量度的同样的样品。

降低检出限有两种途径,一种是提高仪器的精密度,它是做为分子项的,这方面的潜力已挖掘的差不多了,另一方面就是提高仪器的灵敏度,它是做为分母项的,这方面还有很大的潜力可以挖掘...

感觉有点和提高全息光栅分辨率采取的途径一样,都是从分子,分母着手考虑...现在的中阶梯光栅就是通过增大分母,即采用更高的衍射级数提高分辨率的...

纯属个人观点,不一定正确.

原文由 zhengxxx 发表:

原文由 chauchylan 发表:

原文由 zhckj 发表:

原文由 chauchylan 发表:
我想主要还是进样系统吧...检测器已够灵敏了,质量分析器的真空也满足分析的要求了...无论ICP-MS还是ICP-AES,进样系统都是仪器改进的主要方向吧..

我觉得仪器最理想的设计系统就是能减轻操作者的工作量和达到最完美的检测要求。也就是ICP-MS 最容易出现问题和很多不能达到检测条件的部位。优化进样系统，尽力减少前处理的程序，尽可能是检测器能最大的检测所有想检测的元素，检测的范围要是能有刻度调节就好，有"尺"有"寸"，那样不必买更多的仪器来检测不同量度的同样的样品。

降低检出限有两种途径,一种是提高仪器的精密度,它是做为分子项的,这方面的潜力已挖掘的差不多了,另一方面就是提高仪器的灵敏度,它是做为分母项的,这方面还有很大的潜力可以挖掘...

感觉有点和提高全息光栅分辨率采取的途径一样,都是从分子,分母着手考虑...现在的中阶梯光栅就是通过增大分母,即采用更高的衍射级数提高分辨率的...

纯属个人观点,不一定正确.

提点稍有不同的观点，仅供参考，目前ICPMS的极限检出限水平其实已经达到了较高的水准了，目前比较强调的是BEC（背景等效浓度），BEC降低，仪器就有希望获得更低的检出限。
如果不考虑实验室条件因素，ICPMS仪器的的BEC已经达到了较低的水平，其中仅有三类元素不够理想，一是难电离元素(P,S,B)，二是干扰元素(As,Se,Ca)，三是易沾污元素(K,Na，强记忆效应元素).
难电离元素是ICP的局限性所在，干扰元素需要改进碰撞反应池技术，易沾污元素目前通过接口和离子透镜的改进的方法降低检出限。

在获得的更低的BEC之后，如果稳定性加以改善，检出限就从本质上变好了。
但是ICPMS的检出限的确很难做到ICPOES的水平，更简单的质谱系统设计或许是唯一的办法。

原文由 ygl2008 发表:
除了技术方面的因素,商务方面也有一些需要改进的地方,比如说对用户的培训和回访.