主题：【原创】硅中的杂质测量方法比拼

原文由 zhangzhoumin 发表:
B\P的检测限好象没有你说的那么低，低含量的Ｂ＼Ｐ的用低温红外光谱检测

原文由 xsh1234567 发表:
GDMS对硅料里面的硼元素，单测的结果并不是很好，和其他的分析检测手段包括物理方法的检测，经常存在对不上的情况。
也许还需要再改进吧？

原文由 xuchuan 发表:
ICP-MS目前只有三家在比拼，即PE，热电，安捷伦。但本人感觉最好的当属PE的DRC系列，但你做半导体，其它两家也可以考虑。最主要是样品处理时候不要玷污。水，试剂，容器都很重要。处理样品时候，注意B别跑了

原文由 jchencs 发表:

原文由 xsh1234567 发表:
GDMS对硅料里面的硼元素，单测的结果并不是很好，和其他的分析检测手段包括物理方法的检测，经常存在对不上的情况。
也许还需要再改进吧？

就我手头的大量数据来看, GDMS对硅料里面的硼元素的分析还是可以做得很准的,并且可以和ICP, ICP-MS以及电阻率检测结果对上, 当然前提是GDMS对操作人员的素质要求很高, 同行一般建议由有博士学位的人员操作. 我们公司原本打算买一台GDMS, 如果买了的话, 配套的操作人员肯定是要求有博士学位的. GDMS测量偏差比较大的是对金属元素的检测. 主要是由于金属的偏析比较严重造成的. 正是由于GDMS对金属元素的检测偏差比较大的原因而最后决定改买ICP-MS的.

原文由 xsh1234567 发表:

我手头上的数据则恰恰相反，不知道是不是和您样品的纯度有关呢？GDMS对硼的分析很是不准确，至于取样的问题，ICPMS也是一样的，你一次不可能溶个几克的吧？？GDMS的话，你还可以选择不同部位，加大溅射时间，来减少、确定不均匀度的影响的。
另外，对于VG9000的要求有多高呢？据我所知，上硅所原来的两位老师貌似也不是博士，而Element GD对人员的要求似乎就更低了，国内现在根本没有一家高校有开展GDMS的研究生培养的，所以操作人员要博士来的话，基本上可以认定是不现实的。

呵呵，难得能在这里遇到个物理冶炼法的同行，有机会再多多请教。

原文由 liuqingxue 发表:
硅样品中硼的含量主要集中在0.6-3ppm.

含量挺高的，用氢氟酸加甘露醇处理样品放置B挥发，ICP都能测定。

原文由 liuqingxue 发表:
硅样品中硼的含量主要集中在0.6-3ppm.

含量挺高的，用氢氟酸加甘露醇处理样品放置B挥发，ICP都能测定。