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主题：【求助】硅片表面检测有没有必要使用ICP-MS7500cs？

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zjywin2008
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发表于：2008/08/27 16:38:25 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
再次请教大家一个问题，对于硅片表面金属沾污的检测使用TREX6000X荧光光谱仪就可以检测了，那是不是就没必要再使用ICP-MS7500cs这台设备了，请教相关领域的高手，最好能给出理由，谢过！
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2008/8/27 17:34:25 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
X荧光的准确度可能比较差些，可以大致定性或者半定量的，不过ICPMS是不一定要配的，如果钱多的话无所谓，可以配一台玩玩，有好仪器不玩玩嘛，要看你们单位什么预算和要求的！！
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2008/9/3 13:15:23 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 zjywin2008 发表:
再次请教大家一个问题，对于硅片表面金属沾污的检测使用TREX6000X荧光光谱仪就可以检测了，那是不是就没必要再使用ICP-MS7500cs这台设备了，请教相关领域的高手，最好能给出理由，谢过！


你的wafer表面杂质最低含量在什么水平呢
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highspeed_v
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2008/9/8 12:28:09 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
看你们那里的要求了，如果是出口的产品还要看客户的要求，半导体方面的客户是很麻烦的，不过一般上了规模的硅片厂或者是芯片厂是都有ICP-MS的
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zjywin2008
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2008/9/8 13:48:55 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
说的很有道理！
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