主题:【讨论】动态光散射击法测定粒度时探测器的角度与数量

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littleming
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原文由 jacoblin 发表:
因为测ZP电位是通过测量颗粒电泳速率,再根据henry公式导出ZP值,还需要对入射激光进行调制处理,为了避免对粒径测量造成影响,又考虑内部装置安置优化,所以选择了13度作为ZP测量的角度。事实上13度也可以进行粒径测量,NanoZS可以在两个角度上进行粒径测量。
所谓等电点即ZP值为0的PH值,一般认为ZP值为0的体系最不稳定。可以配置不同PH值的溶液进行ZP测量,最好使用自动滴定仪进行测量,自动调节样品的PH值,测量相应的ZP电位。


其实不想评论一部仪器的好坏,但看到这样的解释觉得十分牵强,所以忍不住要问,既然使用同一的Laser和检测器,会出现对粒径测量造成影响,那么为什么13度会没有影响?只有173度有问题?
主要目的是避重就轻地不说明173度测量 Zeta 电位的误差率十分高,而使测量高浓度样品的 Zeta 电位十分困难(马尔文的仪器是不能测量高浓度样品的 Zeta 电位!在国内他们常说可以测验高浓度样品粒径,而避免谈及Zeta 电位)。〔原因我是知道的,但想先看看哪位仁兄会自愿说出吧!〕
Zeta 电位其实是使用「频率位移」(马尔文用「相位位移」),测量颗粒的电泳速率。然后通过算式得出Zeta 电位,henry公式是马尔文用的简化版,正确的是 Helmholtz-Smoluchowski公式。其它仪器公司多数是Smoluchowski公式和Huckel公式(多数非水溶剂用)。
「相位位移」的好处是针对高导电介质的样品和移动速度低的样品有特高的灵敏度。
「频率位移」的好处是可以测出样品的Zeta 电位的分布,多峰的检测。

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白水山石
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jacoblin
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其实不想评论一部仪器的好坏,但看到这样的解释觉得十分牵强,所以忍不住要问,既然使用同一的Laser和检测器,会出现对粒径测量造成影响,那么为什么13度会没有影响?只有173度有问题?
主要目的是避重就轻地不说明173度测量 Zeta 电位的误差率十分高,而使测量高浓度样品的 Zeta 电位十分困难(马尔文的仪器是不能测量高浓度样品的 Zeta 电位!在国内他们常说可以测验高浓度样品粒径,而避免谈及Zeta 电位)。〔原因我是知道的,但想先看看哪位仁兄会自愿说出吧!〕
Zeta 电位其实是使用「频率位移」(马尔文用「相位位移」),测量颗粒的电泳速率。然后通过算式得出Zeta 电位,henry公式是马尔文用的简化版,正确的是 Helmholtz-Smoluchowski公式。其它仪器公司多数是Smoluchowski公式和Huckel公式(多数非水溶剂用)。
「相位位移」的好处是针对高导电介质的样品和移动速度低的样品有特高的灵敏度。
「频率位移」的好处是可以测出样品的Zeta 电位的分布,多峰的检测。


对仪器的评价应该客观公正。

13度角进行zeta电位测量是因为小角度对于频率谱的分辨率比较高,而大角度频率谱的分辨率偏低,这点如果大家察看相应的文献可以得知。对于动态光散射,Malvern仪器检测的是光强的波动性随时间的变化,即相关方程分析(correlation function analysis)而不是进行频率分析(frequency analysis),所以频率谱分辨率的角度依赖性对于动态光散射没有影响。因此Malvern在13度角测量zeta电位无可非议。DLS中相关方程分析和频率分析都在最新的ISO24412中有所定义,都是ISO认可的方法,只不过前者使用比较普遍,后者使用比较少(Horriba和Microtrac在使用)。检测方法的建立不存在理论上的优略,但是仪器的好坏要用户来评判!

关于Malvern是否真正能够测量高浓度的样品,我不作评判。但是我使用Malvern德仪器检测最高浓度的样品是40%wtSiO2浆料(Slurry),完全乳白色。颗粒的大小为150nm,测试过程中光强被调节为总光强的3%,说明可以检测更高浓度的浆料样品。结果重复性非常好,这点可以从相图中看出来。我想Malvern可以检测如此高浓度的原因是样品池的厚度很小,不用很强的光源就可以穿过较浓的样品。

关于Herry方程,是Smoluchowski还是Huckel模型取决于Herry方程中F(Ka)的值是1还是1.5.如果是1.5那么为Smoluchowski近似(水性溶剂),如果为1.0为Huckel近似(有机溶剂)。这个在Malvern的ZetasizerNano中都提供给用户。上面的帖子中说没有不知道使用的是那个Malvern的仪器型号?

Malvern检测zeta电位使用得相分析方法而不是频率方法从结果相图(phase plot)中就可以看出来,不是相分析哪里来的相图?更多的不想说了,不是在做广告。
littleming
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对仪器的评价应该客观公正。
对,绝对赞同,我绝对相信每部仪器都有自己的优点和缺点,所以评论时更加要客观;看人家的问题也要客观!

13度角进行zeta电位测量是因为小角度对于频率谱的分辨率比较高,而大角度频率谱的分辨率偏低,这点如果大家察看相应的文献可以得知。对于动态光散射,Malvern仪器检测的是光强的波动性随时间的变化,即相关方程分析(correlation function analysis)而不是进行频率分析(frequency analysis),所以频率谱分辨率的角度依赖性对于动态光散射没有影响。因此Malvern在13度角测量zeta电位无可非议。
在13度角测量zeta电位的确是无可非议,正如市面上的大部份仪器是是小角度的(在30度以下)。但你之前的帖子说「为了避免对粒径测量造成影响,又考虑内部装置安置优化,所以选择了13度作为ZP测量的角度。」但同时又说「13度也可以进行粒径测量」,我的问题是为何13度可同时作ZP和粒径测量,但又不「对粒径测量造成影响」,而173度会?按你所说「频率谱分辨率的角度依赖性对于动态光散射没有影响」,那应该可以用173度测zeta电位吧!除了文献,也要参考专利文件的,文件提使用相位分析,必须除去当中的布朗运动,所以理论上散射角必须越小越好,详情可以参考PALS专利文件。另所有Electrophoretic Light Scattering(ELS,电泳光散射)的仪器都是检测光强的波动性随时间的变化,不同的是计算的方式。频率分析是使用频率的数据计算淌度,相位分析是使用相位的数据计算淌度。

DLS中相关方程分析和频率分析都在最新的ISO24412中有所定义,都是ISO认可的方法,只不过前者使用比较普遍,后者使用比较少(Horriba和Microtrac在使用)。检测方法的建立不存在理论上的优略,但是仪器的好坏要用户来评判!
对,最新的ISO22412中对频率分析是有定义的,这标准是今年2008年出版的,而名称为「粒径分析:动态光散射(DLS)」。一直使用的是于1996年出版的ISO13321「粒径分析-光子相关光谱(PCS)」。正如我之前所说,光子相关光谱法是动态光散射的其中一种,使用的理论不同,所以不能说哪种优胜,只能评价硬件的设计。

关于Malvern是否真正能够测量高浓度的样品,我不作评判。但是我使用Malvern德仪器检测最高浓度的样品是40%wtSiO2浆料(Slurry),完全乳白色。颗粒的大小为150nm,测试过程中光强被调节为总光强的3%,说明可以检测更高浓度的浆料样品。结果重复性非常好,这点可以从相图中看出来。我想Malvern可以检测如此高浓度的原因是样品池的厚度很小,不用很强的光源就可以穿过较浓的样品。
先说明我无意冒犯,免得他人的回帖带有攻击性。因为就算是马尔文自己出版的应用文件也只提及SiO2浆料的粒径浓度可以到达10wt%,而没有提及zeta电位的浓度,就算是他们自己选举提及的浓度例子Intralipid,从0.0001来到10%浓度分析后,也只提议用1%浓度。另现在所有的文献有关SiO2浆料,若使用的是穿透式电泳光散射技术,其浓度最高的也只是2wt%;如外国大厂Cabot Microelectronics Corporation,他们的测试也要稀释到1wt%左右,马尔文的应用文件也是用Cabot Microelectronics Corporation。若果阁下真的成功用马尔文Zetasizer Nano测试40wt%SiO2浆料的zeta电位的话,应该立即写论文介绍你的方法,因为这样对整个业界都有深远影响!或者将你的个案告诉马尔文公司,让他们于销售时可以大大声对客户说可以测量高浓度zeta电位。(因为真的有个案他们的销售说可以测试高浓度,但到最后才发现他没有说过高浓度zeta电位!)

关于Herry方程,是Smoluchowski还是Huckel模型取决于Herry方程中F(Ka)的值是1还是1.5.如果是1.5那么为Smoluchowski近似(水性溶剂),如果为1.0为Huckel近似(有机溶剂)。这个在Malvern的ZetasizerNano中都提供给用户。上面的帖子中说没有不知道使用的是那个Malvern的仪器型号?
我的帖子没有说过「没有」!根据IUPAC的报告最初计算电泳淌度是根据电渗速度的相反,而其中的方程是 Smoluchowski。当表面导电性和浓度极化都不用考虑时,应该使用Henry方程。所以Henry在计算方程时得出F1(Ka)为1.5时等同Smoluchowski方程,而F1(Ka)为1.0时等同Huckel方程。

Malvern检测zeta电位使用得相分析方法而不是频率方法从结果相图(phase plot)中就可以看出来,不是相分析哪里来的相图?更多的不想说了,不是在做广告。
我个人完全不明白最后这段的意思。每一个帖子都没有人说过马尔文不是用相位分析吧?你不想做广告,那我帮你吧,其实马尔文zeta电位最强的是M3-PALS技术,你也说说其它厂家的优点吧!

最后,我只想说什么是客观?客观是要多方面分析,每一种技术都有其优点和缺点,当然做销售的只想说出自家的优点,而缺点都是其它厂家的仪器,就算使用同一技术,也是其它厂家有问题。但这里我一直相信讨论的是技术,技术是没有对错,但如果以做销售的的想法来讨论就没趣了。若果话题没趣,对我个人来说再讨论也没有意思。
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jacoblin
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对仪器的评价应该客观公正。
对,绝对赞同,我绝对相信每部仪器都有自己的优点和缺点,所以评论时更加要客观;看人家的问题也要客观!

13度角进行zeta电位测量是因为小角度对于频率谱的分辨率比较高,而大角度频率谱的分辨率偏低,这点如果大家察看相应的文献可以得知。对于动态光散射,Malvern仪器检测的是光强的波动性随时间的变化,即相关方程分析(correlation function analysis)而不是进行频率分析(frequency analysis),所以频率谱分辨率的角度依赖性对于动态光散射没有影响。因此Malvern在13度角测量zeta电位无可非议。
在13度角测量zeta电位的确是无可非议,正如市面上的大部份仪器是是小角度的(在30度以下)。但你之前的帖子说「为了避免对粒径测量造成影响,又考虑内部装置安置优化,所以选择了13度作为ZP测量的角度。」但同时又说「13度也可以进行粒径测量」,我的问题是为何13度可同时作ZP和粒径测量,但又不「对粒径测量造成影响」,而173度会?按你所说「频率谱分辨率的角度依赖性对于动态光散射没有影响」,那应该可以用173度测zeta电位吧!除了文献,也要参考专利文件的,文件提使用相位分析,必须除去当中的布朗运动,所以理论上散射角必须越小越好,详情可以参考PALS专利文件。另所有Electrophoretic Light Scattering(ELS,电泳光散射)的仪器都是检测光强的波动性随时间的变化,不同的是计算的方式。频率分析是使用频率的数据计算淌度,相位分析是使用相位的数据计算淌度。

其实我是这么认为的,专门处理与混合处理肯定有不同,粒径与Zeta电位在两个位置独立测量可以避免一个测量功能坏了影响另一个。比如NanoZS粒径测量出现故障一般是不影响ZP测量的,而ZP测量故障一般也是不影响粒径测量的。而13度检测器设计是测量Zeta电位的,但可以测量粒径,这一点本人最近才发现,使用DTS5.10版本软件。不过我想若Zeta电位测量故障,这个13度检测器测量粒径肯定不行,这是不是造成影响了。呵呵。
还有,测量Zeta电位我认为不是什么动态光散射,马尔文工程师说过是测量电泳速率,与动态光是两回事。我看ISO13321:1991讲动态光散射,也只是提到测量粒径,与Zeta电位无关。我确实不知道如何根据光强布朗运动推导Zeta电位,我认为电泳光散射是测量粒子电泳速率而不是光强相关性,你说呢。



DLS中相关方程分析和频率分析都在最新的ISO24412中有所定义,都是ISO认可的方法,只不过前者使用比较普遍,后者使用比较少(Horriba和Microtrac在使用)。检测方法的建立不存在理论上的优略,但是仪器的好坏要用户来评判!
对,最新的ISO22412中对频率分析是有定义的,这标准是今年2008年出版的,而名称为「粒径分析:动态光散射(DLS)」。一直使用的是于1996年出版的ISO13321「粒径分析-光子相关光谱(PCS)」。正如我之前所说,光子相关光谱法是动态光散射的其中一种,使用的理论不同,所以不能说哪种优胜,只能评价硬件的设计。

关于Malvern是否真正能够测量高浓度的样品,我不作评判。但是我使用Malvern德仪器检测最高浓度的样品是40%wtSiO2浆料(Slurry),完全乳白色。颗粒的大小为150nm,测试过程中光强被调节为总光强的3%,说明可以检测更高浓度的浆料样品。结果重复性非常好,这点可以从相图中看出来。我想Malvern可以检测如此高浓度的原因是样品池的厚度很小,不用很强的光源就可以穿过较浓的样品。
先说明我无意冒犯,免得他人的回帖带有攻击性。因为就算是马尔文自己出版的应用文件也只提及SiO2浆料的粒径浓度可以到达10wt%,而没有提及zeta电位的浓度,就算是他们自己选举提及的浓度例子Intralipid,从0.0001来到10%浓度分析后,也只提议用1%浓度。另现在所有的文献有关SiO2浆料,若使用的是穿透式电泳光散射技术,其浓度最高的也只是2wt%;如外国大厂Cabot Microelectronics Corporation,他们的测试也要稀释到1wt%左右,马尔文的应用文件也是用Cabot Microelectronics Corporation。若果阁下真的成功用马尔文Zetasizer Nano测试40wt%SiO2浆料的zeta电位的话,应该立即写论文介绍你的方法,因为这样对整个业界都有深远影响!或者将你的个案告诉马尔文公司,让他们于销售时可以大大声对客户说可以测量高浓度zeta电位。(因为真的有个案他们的销售说可以测试高浓度,但到最后才发现他没有说过高浓度zeta电位!)

我在实验中测过高浓度的样品,确实没见马尔文工程师宣传,就像他们没有宣传13度检测器也可以测量粒径一样。也许个案不能代表什么吧,不过我想有NanoZS的用户可以自己实验一下,测SiO2浆料看看。我不是销售,当初单位买仪器我也没有接触过马尔文的销售,只是看过马尔文的宣传资料,确实没有提到浓度方面的问题。

关于Herry方程,是Smoluchowski还是Huckel模型取决于Herry方程中F(Ka)的值是1还是1.5.如果是1.5那么为Smoluchowski近似(水性溶剂),如果为1.0为Huckel近似(有机溶剂)。这个在Malvern的ZetasizerNano中都提供给用户。上面的帖子中说没有不知道使用的是那个Malvern的仪器型号?
我的帖子没有说过「没有」!根据IUPAC的报告最初计算电泳淌度是根据电渗速度的相反,而其中的方程是 Smoluchowski。当表面导电性和浓度极化都不用考虑时,应该使用Henry方程。所以Henry在计算方程时得出F1(Ka)为1.5时等同Smoluchowski方程,而F1(Ka)为1.0时等同Huckel方程。

Malvern检测zeta电位使用得相分析方法而不是频率方法从结果相图(phase plot)中就可以看出来,不是相分析哪里来的相图?更多的不想说了,不是在做广告。
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其实应该知道相位位移与频率位移分析的目的是一样的,都是测频率变化。因为Zeta电位是通过测电泳速率得到的,根据多普勒效应,光速频率有变化,激光射到运动的电泳粒子上频率会发生变化。但是若粒子电泳速率很小,则频率位移也很小,我们知道很小的频率变化难以精确测量,而相位测量的灵敏度就高了,所以Malvern NanoZS测量Zeta电位实际上综合使用了频率位移+相位位移。并不是只用相位分析来测量Zeta电位,马尔文的培训PPT中讲这一点。

最后,我只想说什么是客观?客观是要多方面分析,每一种技术都有其优点和缺点,当然做销售的只想说出自家的优点,而缺点都是其它厂家的仪器,就算使用同一技术,也是其它厂家有问题。但这里我一直相信讨论的是技术,技术是没有对错,但如果以做销售的的想法来讨论就没趣了。若果话题没趣,对我个人来说再讨论也没有意思。


其实我也是才用马尔文的NanoZS仪器,使用也就1年多吧,资料也不多,也没有仔细看。谢谢你的评价,我想这样我对仪器的认识也更深了。如果你有其他公司仪器的资料可以给我看看,谢谢。我的邮箱:xiaolin_stone@tom.com.我也很想了解其他仪器的特点,个人感觉各仪器公司都有自己的特点。
litsas
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呵呵,大家有点刻意在意广告了,这里的禁止广告只是针对仪器厂商或销售人员在这里发布针对他们自己的产品的介绍或者夸大其辞的宣传效果,对于用户用过的感受是不被列为广告的。
所谓用户的口碑是厂商最好的广告,虽然用户的口碑有广告的作用,但是他同时也为其他用户和颗粒度测量潜在人群提供了一个选择仪器或者是使用限度方面的参考,为后来人提供有价值的参考意见,这也是我们版面设置技术讨论专区的目的,所以,大家不用在发表意见或看法的时候刻意回避或声明非广告了。
白水山石
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白水山石
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上面发的图是 马尔文的NANO ZS的光源部分的内部结构图,我上传附件的技术还没有过关,还有三个图没有传上来
白水山石
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