应用塞曼效应进行背景校正时,仪器结构并不是固定或一致的,校正方式也可进一步细分为若干种,它们与磁场位置、磁场方向、以及磁场性质等方面的不同选择都是息息相关的:
1.塞曼背景校正装置的安装位置不同分为光源调制与吸收线调制两种,前者是指光源在磁场中发射线的塞曼分裂,后者是指原子化器在磁场中吸收线的塞曼分裂。
2.而由于磁场与光束间的方向不同又分为垂直(横向塞曼效应)与平行(纵向塞曼效应)两种。
3.而根据磁场自身的工作方式又可分为两种:采用恒定磁场的偏振调制方式、采用交变磁场的磁场调制方式。
上述这三条依次组合会有2*2*2=8种形式的塞曼背景校正方式:
光源调制横向恒磁场塞曼背景校正
光源调制纵向恒磁场塞曼背景校正
光源调制横向交变磁场塞曼背景校正
光源调制纵向交变磁场塞曼背景校正
吸收线调制横向恒磁场塞曼背景校正
吸收线调制纵向恒磁场塞曼背景校正
吸收线调制横向交变磁场塞曼背景校正
吸收线调制纵向交变磁场塞曼背景校正
但是:
1.光源调制方式对于仪器光源结构有较大要求,使得元素灯不具有通用性,逐渐被市场所淘汰吧就算...因此,目前市场上的塞曼背景校正的仪器都是采用原子化器调制方式,没有使用光源调制的类型了。
2.关于横向与纵向磁场的问题。横向磁场效应产生的是波长不变的π成分和波长变化的σ±成分,前者用于测量
原子吸收信号,后者不产生
原子吸收信号,是用于对背景校正。而纵向磁场仅能产生σ±成分,也就是说仅能产生背景信号。
3.因此,横向磁场可以使用恒定磁场和交变磁场来实现
原子吸收与背景吸收的测量。而纵向磁场只能采用交变磁场,通过磁场的有无来分别实现对
原子吸收信号和背景信号的测量,纵向磁场若采用恒定磁场则只有背景信号,不能用于
原子吸收仪器分析。
纵上所述,所以目前市场上只有3种塞曼背景校正的仪器:
吸收线调制恒定磁场横向塞曼型:
WFX-810型(北京瑞利分析仪器公司)
Z8000/Z5000/Z2000系列(日本Hitachi公司)
吸收线调制交变磁场横向塞曼型:
ZEEnit系列(德国analytik-jena公司)
Z3030型(美国Perkin-Elmer公司)
吸收线调制交变磁场纵向塞曼型:
ZL4100/Z600/Z800 AnalytTM600/800型(美国Perkin-Elmer公司)
继续,这就引起了一个问题,就是您所提到的问题了,采用交变磁场背景校正的,它必须要求有复杂、庞大的电路系统,而且磁间隙有限,现有的机械、电学、物理学等水平决定了它不能够生产出有火焰燃烧缝那么长(一般15cm左右)的磁场,仅仅应用于石墨炉分析的纵向交变磁场的正常消耗功率就已经达到了4kW!这已经对用于分析的实验室的电路造成了很大的负荷,而且还不包括石墨炉电源,仅仅是它的交变磁场就是4kW了。
因此目前采用交变磁场背景校正的仪器,仅仅是石墨炉分析而已,仪器在火焰一侧的背景校正方式采用的必然是D2灯。
而横向恒定磁场就没有这个问题了,可以实现火焰与石墨炉的塞曼背景校正,但是并不是说这就比交变磁场要好或是技术更先进,应该说是各有所长也各有所短,真正的评判依据在于用户,用户分析自己的样品适用的方式,就是对他来说好的方式。
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