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主题：【讨论】如何有效防止水峰的出现干扰谱图

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发表于：2009/04/03 16:36:08 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
各位好！
    我每次要做的样品数量比较多，所以一般都会设定在收背景后120分钟后再收背景，当然我的工作室湿度一般都稳定50%左右，但经常会有背景后的每一个样品水峰干扰就很大，如果样品水峰为负值，我可以向里面吹气，但图太不漂亮了，如果是正值就不得不再设收集样品后收背景，这样的样品谱图才没有一点受扰痕迹。请大家发表下在这方面的意见，谢谢！
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2009/4/3 19:15:45 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
每次做样品前扫背景，费不了多少时间。
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2009/4/3 19:57:49 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
也许这是解决这个问题的唯一好办法了。

原文由 diamond 发表:
每次做样品前扫背景，费不了多少时间。
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业精于勤
qm-99
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2009/4/6 11:09:49 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
谢谢两位，但我的样品太多了，希望大家提供些其它少做背景但环境干扰小的有效经验。
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2009/4/6 11:46:56 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
可以考虑严格控制实验室的湿度、温度、气流，另外最好半小时做一张背景。两小时的话，有点太长了。

原文由 qm-99 发表:
谢谢两位，但我的样品太多了，希望大家提供些其它少做背景但环境干扰小的有效经验。
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