主题:【讨论】消除石墨管的记忆效应

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故乡的一片云
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在实际操作中,每次做完曲线,然后测试机空白时都很高,应该是测曲线时的残留吧,我每次都测两次试剂空白,不知大家都怎么解决这样的问题?现在我一般空烧两次,然后再测试剂空白!
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意境
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没发现这个问题,那就把最后的那个清洗温度提高一点,是不是会好点阿!
故乡的一片云
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原文由 意境(junyuxinyan) 发表:
没发现这个问题,那就把最后的那个清洗温度提高一点,是不是会好点阿!


现在已经是2450度了,还能再高吗
ldgfive
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原文由 故乡的一片云(zxf19810709) 发表:
在实际操作中,每次做完曲线,然后测试机空白时都很高,应该是测曲线时的残留吧,我每次都测两次试剂空白,不知大家都怎么解决这样的问题?现在我一般空烧两次,然后再测试剂空白!


一般情况下,我们也是采取空烧方法进行去除
孤独走过
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可能性:
1\清除温度不够
2\环境空气不够清洁
3\石墨管质量不好
coffee8
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夕阳
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一次我测Cd,原子化温度1500度,但是由于样品背景的原因,测下一个样品发现有残留的干扰,直至将清除温度提高到2800度才解决问题。
kahn12345
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JIANNAN
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1.象做cr,ni时,吸光度高可以设置除残步骤,即当吸光度高于多少值时开始执行空烧石墨管,效果不错哦.
2.对于空白样品,可以在你的空白样前放置去离子水样,这样可以起到清洗石墨管的作用,以保证你的空白值.
chemistryren
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楼主的涂层管是买的还是自己制作的?空烧两次能解决问题了吗?
故乡的一片云
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