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原文由 renxin 发表:原文由 hahale 发表:原文由 darkeye 发表:
我认为都可以,看你要做什么?
主要做纳米薄膜材料（无机）表面形貌和成份分析，兼顾其他学科的需要。
我的个人建议是，
1，纳米 级别， 场发射 扫描电镜是首选。
2，薄膜材料， 这就是说 W 枪 几乎不适合
3， 无机材料， 看来 样本室 可变压力的要求不是 必须的， 不过建议考虑，原因是 看来您不想 镀层样品， 破坏表面形貌和成分。
4，表面形貌， 场发射几乎已经是 唯一选择
5， 成分分析， W枪和场发射 都适合， 但场发射 可以直接 兼顾 成分和形貌分析， 冷场做成分 较 困难
6，兼顾其他学科的需要， 最可能 增加的附件就是能量谱仪， 冷场做 能谱 几乎很难困难。
我个人对几个厂家的看法是
1，ZEISS，设计可靠， 热场 同时应用 INLENS 二次电子检测器 和 INLENS 背散射电子检测器， 所以成分形貌兼得功能强大， 能谱应用轻而易举
2，HITACHI， 冷场技术 首屈一指
3，FEI， 售后服务好
4，JEOL，不清楚
5，TESCAN，没有 场发射选择
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