半导体行业测试环境中痕量F,Cl,SO4,NO3,早晚开关机,正常状态机台在0.5-1h稳定,每天会run一个blank,然后一个标液;
现在机台出现了异常,做标液时4ppbSO4标液只有3ppb左右,3个小时以后4ppb标液run出来才在4ppb左右,并且保持稳定状况,也即是标液run出来的结果是逐渐增大,最后稳定到4ppb,其它几个离子标液都是正常,没有次状况出现;
离子色谱型号:Dionex ICS2000,AS15-4mm+AG15-4mm,使用AG15-4mm做浓缩柱,进样1.3ml/min, 7min。
这种状况是最近突然出现的,一直没有办法解决,不知道大家有没有什么建议。
非常感谢!
另外,Dionex ICS2000以前一直用的是AS15-4mm柱子,鉴于淋洗液用量与痕量分析的考量,想换成AS18-2mm的柱子,不知道有没有用这个型号且这种柱子的用户,提供一些建议,谢谢!