主题:【讨论】激发时间对打点有什么影响?

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wccd
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请问各位同仁,你们的直读在分析时的激发时间是多少?
我们在试验时发现一般是十几秒——几十秒不等,由于样品材料不同激发时间也有所不同,根据你们的经验,大家能否总结一下,不同的品牌,不同的型号,不同的样品,对应的激发时间各是多少?请各位高手发言讨论。
该帖子作者被版主 mlb20032积分, 2经验,加分理由:鼓励讨论!
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wccd
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时间短材料熔池浅质量不佳,
时间长材料熔池过深对检测不利。

激发时间多少为合适,打出的点质量才高?
热电直读7000型,铅合金  15-20S,  电流2.5-2.7A,  功率50%-55%,  效果较好。

mlb2003
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原文由 wccd(wccd) 发表:
时间短材料熔池浅质量不佳,
时间长材料熔池过深对检测不利。

激发时间多少为合适,打出的点质量才高?
热电直读7000型,铅合金  15-20S,  电流2.5-2.7A,  功率50%-55%,  效果较好。

没有研究过,激发时间的长短与电流、功率有关吧?
chemchenxj
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wccd所说的激发时间是指整个样品的测量时间还是某条谱线的曝光时间啊?
曝光时间与样品的种类及光源的能量大小有关系的,一般曝光时间是2-5秒,很多仪器现在只有两三秒的
一般分析过程中会有冲洗、预燃、曝光等几个阶段,其中曝光又分几种放电方式,如spark1、spark2、spark3等等,总的分析时间短的20秒左右,长的可能要40秒左右的
wccd
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我所指的激发时间包含了冲洗、预燃、曝光全过程。但是未涉及激发频率,脉冲电流,工作电压等参数。
jekyll
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