主题：【讨论】CARL ZEISS EVO的灯丝crossover像是如何形成的?

原文由 驰奔(srd2009) 发表:
驰奔在圈里就一个硕果仅存的人渣！还是上边那句话，会用不就行了吗，还要问为什么？ 全中国人都不知道，就你想弄明白，弄明白又能怎么样呢？全中国人都不想知道，就你想知道，知道了反倒孤独！ 驰奔到此为止了！

想办法到国外来吧~这里技术是受尊敬的~

好不容易找到一张图，大家看看可能就明白了。

原文由 jeolzxj(jeolzxj) 发表:
好不容易找到一张图，大家看看可能就明白了。

还是没看明白crossover像是怎么检测到的，掩面撤退

原文由 iangie(iangie) 发表:

原文由 驰奔(srd2009) 发表:
驰奔在圈里就一个硕果仅存的人渣！还是上边那句话，会用不就行了吗，还要问为什么？ 全中国人都不知道，就你想弄明白，弄明白又能怎么样呢？全中国人都不想知道，就你想知道，知道了反倒孤独！ 驰奔到此为止了！

想办法到国外来吧~这里技术是受尊敬的~

别这么说吧，驰奔是高手，敬仰！

原文由 PK-ZH(pk-zh) 发表:

原文由 jeolzxj(jeolzxj) 发表:
好不容易找到一张图，大家看看可能就明白了。

还是没看明白crossover像是怎么检测到的，掩面撤退

同感, 这个图只是说明spot size 跟C1 的关系...哪有说束斑像的形成原理??

原文由 jeolzxj(jeolzxj) 发表:
好不容易找到一张图，大家看看可能就明白了。

再看这幅图，实际上在crossover像的模式下，平常大家说的扫描线圈是不工作的。在电子枪的部分有个Gun coils,平时是用来调电子对中的，现在它起扫描的作用，扫描的区域就是物镜光阑上，所以看到的就是物镜光阑的孔，只有透过孔的电子打在样品上，被二次电子探头接受到，形成一个斑点。其他公司的可能略有不同，但大概原理基本是这样。

原文由 jeolzxj(jeolzxj) 发表:

原文由 jeolzxj(jeolzxj) 发表:
好不容易找到一张图，大家看看可能就明白了。

再看这幅图，实际上在crossover像的模式下，平常大家说的扫描线圈是不工作的。在电子枪的部分有个Gun coils,平时是用来调电子对中的，现在它起扫描的作用，扫描的区域就是物镜光阑上，所以看到的就是物镜光阑的孔，只有透过孔的电子打在样品上，被二次电子探头接受到，形成一个斑点。其他公司的可能略有不同，但大概原理基本是这样。

这下明白了！

原文由 jeolzxj(jeolzxj) 发表:


再看这幅图，实际上在crossover像的模式下，平常大家说的扫描线圈是不工作的。在电子枪的部分有个Gun coils,平时是用来调电子对中的，现在它起扫描的作用，扫描的区域就是物镜光阑上，所以看到的就是物镜光阑的孔，只有透过孔的电子打在样品上，被二次电子探头接受到，形成一个斑点。其他公司的可能略有不同，但大概原理基本是这样。

那物镜光阑孔内的对比度是怎么形成的呢? 为什么电子束被扫描到"灯丝tip"位置打到样品上被SED接收到的信号强度高于电子束被扫描到"灯丝边缘"打到样品上被SED接收到的信号强度呢?  不会是因为只有那个地方最垂直于样品面吧?

那物镜光阑孔内的对比度是怎么形成的呢? 为什么电子束被扫描到"灯丝tip"位置打到样品上被SED接收到的信号强度高于电子束被扫描到"灯丝边缘"打到样品上被SED接收到的信号强度呢?  不会是因为只有那个地方最垂直于样品面吧?

楼主的问题把JEOLzxj给惊动了：），迷思难解啊，其实驰奔也想弄明白！jeolzxj是正确的。而且确实，相比较没有该配置的电镜而言，在调节机械对中的时候显得方便，非常直观的方式来迅速调节对中，配合波形观察模式，容易找到最佳饱和点，而且更精确！
以下查了一个资料中描述分享一下：emission pattern can be readily observed in a TEM, and some SEMs are also equipped with scanning coils in the gun which permit a very similar visualization of the emission pattern. We provide this kind of "source imaging" feature on our Personal SEMTM and it is my preferred way to optimize the gun. Calling this kind of optimization "saturation" is a reasonably apt way to describe how the emission pattern seems to collapse into a dense spot. You can also accomplish a rather equivalent kind of optimization on a SEM which does not have this source imaging feature by maximizing the beam current under high magnification conditions (typically done by observing the waveform signal). So ideally when microscopists are talking about saturation, they are visualizing this kind of optimization procedure.