W and C的书第二版P 734,讲:在内置Ω或后置GIF中,为得到过滤像.要平移能量谱,让希望的能量区通过选择狭缝.能谱的平移实际上靠改变透射的加速电压.以使得需要的电子在光轴上. 而刘安生翻译的<材料评价的分析电子显微方法>上P86讲:将狭缝置于特定损失处,得到过滤像. 再看朱静老师的PPT,不巧这方面的内容在最后,好象没有了。感觉后者有道理.如果按前者的说法,感觉改变谱仪的磁场来平移谱更符合物理原理.请朋友们发表高见!谢谢!
原文由 xuaiqun(xuaiqun) 发表: W and C的书第二版P 734,讲:在内置Ω或后置GIF中,为得到过滤像.要平移能量谱,让希望的能量区通过选择狭缝.能谱的平移实际上靠改变透射的加速电压.以使得需要的电子在光轴上. 而刘安生翻译的<材料评价的分析电子显微方法>上P86讲:将狭缝置于特定损失处,得到过滤像. 再看朱静老师的PPT,不巧这方面的内容在最后,好象没有了。感觉后者有道理.如果按前者的说法,感觉改变谱仪的磁场来平移谱更符合物理原理.请朋友们发表高见!谢谢!