主题:ICP测定钛板中的Si

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kance
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测定Si时,空白值高得离谱,氢氟酸影响大吗?但氢氟酸浓度只有2%。
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只有SiF4存在就有挥发的可能性啊!
是采用微波密闭方式溶解的?后以硼酸络合?
东北虎
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kance
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厂家说是耐氢氟酸的,分析试剂空白后再分析纯水光强也降不下,拆下用纯水泡24小时能降下来,但喷试剂空白又上去了,是不是以前做样时沉积下的Si盐,遇氢氟酸溶解的结果。
kance
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室温溶样SiF4挥发的可能性很小AlCl3和硼酸我都用过,但还是不行。
xibeiren
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ztdocument
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我想请教一个问题。常用的无机物中的SI是如何配制样品及测定的?如NaF、Na2CO3、NaH2PO2.H2O、有机物中杂质SI等。恳请各位大侠赐教。
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