主题:【求助】关于空白的污染

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iriver595t
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请教大家,是关于样品污染的问题。
我做了一批样品,序列为DCM,Blank1,(sample1~sample10),blank2,(sample11~sample20)blank3
在第一个测试的DCM发现污染,怀疑是柱子有所残留,排除试剂的问题(因为后来又测试了同样的试剂,是干净的)。
DCM(二氯甲烷)谱图如下:


随后run了空白blank1,谱线和前面的DCM基本一致,怀疑还是FID柱子里的残留物所导致的,
blank1的谱图如下:

随后,又run了10个样品,或许是污染被“消化”掉了,在接下来两个空白(blank2和blank3)中,都未发现污染,
两者谱图如下:
BLANK2

BLANK3


为了确认blank1污染的原因,我又run了一遍blank1,(希望这次样品是干净的),那么就可以得到可靠的数据。可是令人郁闷的事情又发生了,
这次run的谱图如下:
blank1-R

请问大家,最后一张图可能的污染源可能是什么呢?
(1)FID的柱子?
如果是这样,那每个样品都应该有污染,其他空白样品基本没发现
(2)针头把盖子上的东西扎进样品了
ps.之前GC-MS分析过,该污染应该是Si-O之类的东西
谢谢了!
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dahua1981
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八毛的老公
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不知道你老化过吗?连续进样不应该有问题的,有可能使前面样品在柱子柱子有所残留。
iriver595t
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不知道你老化过吗?连续进样不应该有问题的,有可能使前面样品在柱子柱子有所残留。

没有老化过,仪器是别人的,也不太好操作
八毛的老公
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不知道你老化过吗?连续进样不应该有问题的,有可能使前面样品在柱子柱子有所残留。

没有老化过,仪器是别人的,也不太好操作

难怪了,液体进样这样的情况很多啊!
yifan1117
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阿宝
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1.基线好差啊,是不是用的空压机?
2.最后一个图哪些等间距的峰,换个低流失的进样垫看是否可以消除掉
iriver595t
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1.基线好差啊,是不是用的空压机?
2.最后一个图哪些等间距的峰,换个低流失的进样垫看是否可以消除掉

基线确实很不好,麻烦解释下空压机和低流失进样垫的意思,谢谢!
阿宝
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1.基线好差啊,是不是用的空压机?
2.最后一个图哪些等间距的峰,换个低流失的进样垫看是否可以消除掉

基线确实很不好,麻烦解释下空压机和低流失进样垫的意思,谢谢!

空气源是不是用的压缩空气?那个是间歇性启动,每次启动一下基线就会波动一下
2.低流失进样垫价格贵,但是不会出现那种等间距的杂峰,你最后那一张图可能是进样垫流失导致的,不过也可能是柱流失
iriver595t
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1.基线好差啊,是不是用的空压机?
2.最后一个图哪些等间距的峰,换个低流失的进样垫看是否可以消除掉

基线确实很不好,麻烦解释下空压机和低流失进样垫的意思,谢谢!

空气源是不是用的压缩空气?那个是间歇性启动,每次启动一下基线就会波动一下
2.低流失进样垫价格贵,但是不会出现那种等间距的杂峰,你最后那一张图可能是进样垫流失导致的,不过也可能是柱流失

谢谢您的解答,不过柱流失的话应该会影响到每个样品吧?
阿宝
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1.基线好差啊,是不是用的空压机?
2.最后一个图哪些等间距的峰,换个低流失的进样垫看是否可以消除掉

基线确实很不好,麻烦解释下空压机和低流失进样垫的意思,谢谢!

空气源是不是用的压缩空气?那个是间歇性启动,每次启动一下基线就会波动一下
2.低流失进样垫价格贵,但是不会出现那种等间距的杂峰,你最后那一张图可能是进样垫流失导致的,不过也可能是柱流失

谢谢您的解答,不过柱流失的话应该会影响到每个样品吧?

柱流失主要表现在杂峰上,当然了 也会对柱效有影响。固定液为高分子聚合物,裂解后流失 就是等间距的峰
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