　　随着材料科学领域的飞速发展与电子显微技术的不断进步，电子显微产品无论是从深度上还是广度上都有了长足的进步，如场发射电子枪、磁场沉浸透镜、球差校正技术、计算机的广泛应用等方面，使其逐渐成为一种研究表面微观世界的一种全能电子光学仪器，逐渐向向智能化、网络化、综合化、小型化等方向发展。

　　新技术的诞生伴随着新产品的面世，近几年，众多电镜生产商纷纷推出新品，在满足用户日益提升的测试需求的同时，也力求进一步扩大自身在电子显微仪器市场的份额。下面我就将近几年的电子显微新产品加以盘点，以供网友欣赏。

　　1、扫描电镜(SEM)新产品

FEI公司Helios NanoLab 650 FESEM/FIB“双束”显微镜

　　Helios NanoLab 650双束显微系统将FEI分辨率极高的电子扫描显微镜(FESEM)与崭新的高性能离子束(FIB)整合在一起，并将DualBeam技术成功应用到其中，主要供在单一的纳米级上对材料进行先进特征化描述和改性的学术和工业研究中心使用。Helios NanoLab 650拥有更高的FIB束流密度和低电压范围，第一次达到亚纳米分辨率;可在超低光束能量下的纳米级以下分辨率可提供表面特定的成像，这在截至目前的双束仪器中是无法实现的。

FEI公司Nova NanoSEM x50系列场发射扫描电子显微镜

　　理想中的SEM分析可以保持样品的原来状态，得到样品真正的表面形貌，而且处理过程简单。Nova NanoSEM x50系列产品采用低真空模式，可以高分辨表征和分析极易污染和不导电的样品;采用“浸入式”透镜和“无磁场”透镜双物镜技术，具有环形信息过滤功能的定向背散射电子探头，特别是在低电压、大束流的条件下或者处理放气样品的时候，能满足纳米尺度的表征、分析和原型制备的需求，可以提供高真空条件下更高分辨、更高质量成像和分析的高级解决方案。

　　日立高新SU-8000系列扫描电镜

　　SU8000系列是在S-4800型基础上研发而来，其技术改进主要体现在低能高分辨率、E×B专利设计等方面。具体来说，SU8000系列产品采用半内透镜设计物镜，利用减速功能可以在低于500V的条件下进行高分辨观察，其分辨率可以达到1.3nm(1KV)。据了解，SU8000系列包括4个型号，8010型是最基础的型号，8020型安装了顶插式探头，8030型的特点是超大样品仓，8040型则表现在样品移动台的高精度。据说目前SU8000系列目前在国内已获得了多个订单，仅在北京便有好几个。

　　蔡司公司CrossBeam系列GEMINI场发射扫描电镜

　　该产品由电子束系统(SEM)和离子束系统(FIB)组成，将高分辨率场发射专利技术与高性能的聚焦离子束技术结合在一起，可以进行材料的刻蚀，沉积和TEM制样。它可以进行实时(在刻蚀或沉积时)观察(SEM)以及其它分析。其采用优良的低加速电压，可避免对样品表面的损伤;采用了用于形貌成像的GEMINI In-len二次电子探测器技术，允许顺磁、逆磁或强磁样品在非常短的工作距离时高分辨成像，从而可实现边刻蚀边观察的实时观察功能。

　　2、透射电镜(TEM)新产品

　　 日本电子JEM-ARM200F透射电镜

　　前为止场发射透射电镜使用的都是热场发射技术，冷场发射虽然能量发散度小，相干性好，但稳定性很差，很难实际使用。而日本电子株式会社2010年7月最新推出了冷场发射双球差校正原子分辨和分析型透射电镜。该系统备了一体化的球差校正器，具有高稳定性、易操作性，大大提高了分辨率和分析能力，使电镜分析达到亚埃原子分辨水平，适用于各种高端研究。此外，JEM-ARM200F拥有日本电子独有的ABF技术，使得元素确认能力也更强，可作二维原子柱的元素分析。

　　日立HT7700新型数字化透射电镜

　　日立HT7700新型数字化透射电镜具有独创的物镜极靴，具有极高的对比度和高分辨率的成像功能，是一种快速的纳米材料分析新工具，专门用于生物和纳米材料的观察。HT7700拥有双隙物镜系统(高反差/高分辨)，两者之间可一键切换;采用实时电荷耦合装置照相机取代双筒显微镜观察样品，操作人员可在正常室内光照条件下观察样品。自动连续拍照和全景拼图功能也是这款产品的一大亮点，EMIP-SP图像处理软件使得HT7700更加地得心应手。

　　从上述新品盘点中可以看出，近几年电子显微新产品多集中在四大知名电镜仪器公司——FEI、日本电子、日立高新、德国蔡司，而且仪器性能也有很大程度的提升，自然新品的价格也是“扶摇直上”；但是，就国内目前的电镜市场格局来看，纵然进口电镜仪器如何高，国内用户还得“咬牙切齿”买，因为国内仅一家中科科仪（KYKY）在生产电镜，且也仅为低端产品，如何满足科学研究的需要呢？今天这般垄断的格局，不知是感叹国外技术发展太快？还是国内研发支持力度不够？！