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我们是把试剂空白直接扣除的
是扣除试剂空白的吸光值吗?如否,那是怎么扣除
我们的软件上,做标准加入法时,有空白校正功能
看来是相当于把样品空白带进标加法做样品的线性方程中计算扣除样品空白的含量了。
我觉得这样不太好吧?既然样品有基质干扰,那么样品中试剂的吸光值跟单测试剂的吸光值应该是不一样的啊,怎么能会这样扣除呢?
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我们是把试剂空白直接扣除的
是扣除试剂空白的吸光值吗?如否,那是怎么扣除
我们的软件上,做标准加入法时,有空白校正功能
看来是相当于把样品空白带进标加法做样品的线性方程中计算扣除样品空白的含量了。
我觉得这样不太好吧?既然样品有基质干扰,那么样品中试剂的吸光值跟单测试剂的吸光值应该是不一样的啊,怎么能会这样扣除呢?
标准加入法的空白应该是样品空白(按标准加入法比例稀释的样品空白),用以扣除试剂本底,至于样品的基体影响嘛,标准加入法本身就是加入相同量的样品溶液,影响是一致的,这也是标准加入法的测试原理
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我们是把试剂空白直接扣除的
是扣除试剂空白的吸光值吗?如否,那是怎么扣除
我们的软件上,做标准加入法时,有空白校正功能
看来是相当于把样品空白带进标加法做样品的线性方程中计算扣除样品空白的含量了。
我觉得这样不太好吧?既然样品有基质干扰,那么样品中试剂的吸光值跟单测试剂的吸光值应该是不一样的啊,怎么能会这样扣除呢?
标准加入法的空白应该是样品空白(按标准加入法比例稀释的样品空白),用以扣除试剂本底,至于样品的基体影响嘛,标准加入法本身就是加入相同量的样品溶液,影响是一致的,这也是标准加入法的测试原理
我 是用PE机子里的方法做的标加,试剂空白是单测的,不知你的试剂空白是怎么测的。你说“标准加入法的空白应该是样品空白(按标准加入法比例稀释的样品空白)”,我没看明白啊
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我们是把试剂空白直接扣除的
是扣除试剂空白的吸光值吗?如否,那是怎么扣除
我们的软件上,做标准加入法时,有空白校正功能
看来是相当于把样品空白带进标加法做样品的线性方程中计算扣除样品空白的含量了。
我觉得这样不太好吧?既然样品有基质干扰,那么样品中试剂的吸光值跟单测试剂的吸光值应该是不一样的啊,怎么能会这样扣除呢?
标准加入法的空白应该是样品空白(按标准加入法比例稀释的样品空白),用以扣除试剂本底,至于样品的基体影响嘛,标准加入法本身就是加入相同量的样品溶液,影响是一致的,这也是标准加入法的测试原理
我 是用PE机子里的方法做的标加,试剂空白是单测的,不知你的试剂空白是怎么测的。你说“标准加入法的空白应该是样品空白(按标准加入法比例稀释的样品空白)”,我没看明白啊
我用的软件有空白校正测试行
空白样品:如你定容至50mL, 每50mL加入样品10mL, 那么你的标准加入法空白溶液应该是10mL原空白液稀释定容至50mL的溶液