主题:【求助】石墨炉测铜基线不正常,空白偏高

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管子使用前空烧下来了吗,确保溶液没污染才好
试了换新的热解石墨管,还是一样的问题,就是空白习惯度低下来了,前面的起峰仍没解决,空烧石墨管,基线是平的,而且在0以下。
你的升温程序用仪器推荐吧,曲线做的怎样


曲线倒是没问题,但是这个基线走的,看起来就是有问题的啊,以前都没碰到过,原来也用热解石墨管做过,就是空白太高了,换了高密的做,发现很好就一直用高密的了,但是最近发觉,习惯度太低,有时候样品的吸光度一点点变化,浓度差异很大,这个对我们公司自控指标很有影响,就想用热解重新做下,虽然热解的线性才2个9,但是吸光度比较高。可是最近做就是不行,基线走的很伤脑筋。
配标准系列的空白高吗,即标准曲线的零点当样品测


0.01X左右,稍微有点高,跟高密的没得比,高密的0.002~0.004一般都在这个值
秋月芙蓉
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管子使用前空烧下来了吗,确保溶液没污染才好
试了换新的热解石墨管,还是一样的问题,就是空白习惯度低下来了,前面的起峰仍没解决,空烧石墨管,基线是平的,而且在0以下。
你的升温程序用仪器推荐吧,曲线做的怎样


曲线倒是没问题,但是这个基线走的,看起来就是有问题的啊,以前都没碰到过,原来也用热解石墨管做过,就是空白太高了,换了高密的做,发现很好就一直用高密的了,但是最近发觉,习惯度太低,有时候样品的吸光度一点点变化,浓度差异很大,这个对我们公司自控指标很有影响,就想用热解重新做下,虽然热解的线性才2个9,但是吸光度比较高。可是最近做就是不行,基线走的很伤脑筋。
配标准系列的空白高吗,即标准曲线的零点当样品测


0.01X左右,稍微有点高,跟高密的没得比,高密的0.002~0.004一般都在这个值
建议换支管试试,如不同批次的管
秋月芙蓉
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管子使用前空烧下来了吗,确保溶液没污染才好
试了换新的热解石墨管,还是一样的问题,就是空白习惯度低下来了,前面的起峰仍没解决,空烧石墨管,基线是平的,而且在0以下。
你的升温程序用仪器推荐吧,曲线做的怎样


我空烧石墨管的时候,基线是平的,是不是超纯水和酸出了问题啊,我试了好几种水了,有自己单位制水机制的,有用蒸馏法蒸的,有好几种牌子的纯净水,都是一个问题,而且硝酸都换了2个牌子了。不加酸也是这样的基线。
试剂空白由于没有样品消解,以致酸度会比较高,不妨赶酸彻底些
夕阳
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请分别用高密管和热解管做以下实验:
(1)什么样品均不注入,仅仅是测空气,看看吸光值是多少。这叫做空测实验,最好每种重复管子测三次。
(2)分别测标样空白,也是三次。
等待楼主将上述实验做出来后,大家在做评论。
此外楼主最好能将仪器参数和加热参数也传上来。并且最好能将两种石墨管的照片拍下来看看。此外什么叫做高密管?他的特点是什么?与热解管的区别在哪里?
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2013/7/10 16:48:41 Last edit by anping
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请分别用高密管和热解管做以下实验:
(1)什么样品均不注入,仅仅是测空气,看看吸光值是多少。这叫做空测实验,最好每种重复管子测三次。
(2)分别测标样空白,也是三次。
等待楼主将上述实验做出来后,大家在做评论。
此外楼主最好能将仪器参数和加热参数也传上来。并且最好能将两种石墨管的照片拍下来看看。此外什么叫做高密管?他的特点是什么?与热解管的区别在哪里?


空测习惯都均在0.002左右,表样空白高密的0.004,热解的0.014~0.020。

仪器参数和加热参数我是使用仪器默认的,因为经过试验,这种参数吸光度最好。

高密度石墨管:适合于原子化温度较低,易于形成挥发性氧化物的测定:
Li,Na,K,Rb,Cs,Ag,Au,Be,Mg,Zn,Cd,Hg,Al,Ga,In,Tl,Si,Ge,Sn,Pb,As,Sb,Bi,Se,Te等元素。
应用优点:还原气氛强,不易生成挥发性氧化物,因此灵敏度较涂层好。特别是对于:Ai,Si,Ge,Sn。
 
热解涂层管:主要针对于易形成碳化物元素的测定:
Ca,Cr,Cu,Ba,Sr,Ti,V,Ni,Pt,Rh,Pd,Pt,Ir等
尤其是Ni,Cu,Ca,Ti,Sr等几种元素比用普通高密石墨管的灵敏度提高10-30倍。
xiaolanfish
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夕阳
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请分别用高密管和热解管做以下实验:
(1)什么样品均不注入,仅仅是测空气,看看吸光值是多少。这叫做空测实验,最好每种重复管子测三次。
(2)分别测标样空白,也是三次。
等待楼主将上述实验做出来后,大家在做评论。
此外楼主最好能将仪器参数和加热参数也传上来。并且最好能将两种石墨管的照片拍下来看看。此外什么叫做高密管?他的特点是什么?与热解管的区别在哪里?


空测习惯都均在0.002左右,表样空白高密的0.004,热解的0.014~0.020。

仪器参数和加热参数我是使用仪器默认的,因为经过试验,这种参数吸光度最好。

高密度石墨管:适合于原子化温度较低,易于形成挥发性氧化物的测定:
Li,Na,K,Rb,Cs,Ag,Au,Be,Mg,Zn,Cd,Hg,Al,Ga,In,Tl,Si,Ge,Sn,Pb,As,Sb,Bi,Se,Te等元素。
应用优点:还原气氛强,不易生成挥发性氧化物,因此灵敏度较涂层好。特别是对于:Ai,Si,Ge,Sn。
 
热解涂层管:主要针对于易形成碳化物元素的测定:
Ca,Cr,Cu,Ba,Sr,Ti,V,Ni,Pt,Rh,Pd,Pt,Ir等
尤其是Ni,Cu,Ca,Ti,Sr等几种元素比用普通高密石墨管的灵敏度提高10-30倍。


高密管与热解管的工艺区别在哪里?外观有何不同?
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