主题:【讨论】雾化气压力(流量)是如何影响发射强度和背景强度的?

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依风1986
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雾化气压力(流量)是如何影响发射强度和背景强度的?

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千层峰
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雾化气压力过大或过少都会影响雾化效果,从而影响进入矩管的样品量
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雾化气压力过大或过少都会影响雾化效果,从而影响进入矩管的样品量


是的,不过有个最佳平衡点
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雾化气压力过大或过少都会影响雾化效果,从而影响进入矩管的样品量


是的,不过有个最佳平衡点
默认值基本是适用的。。。
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雾化气压力过大或过少都会影响雾化效果,从而影响进入矩管的样品量


是的,不过有个最佳平衡点
默认值基本是适用的。。。


默认是适用的,但不是最佳的
abcpgf
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这个估计得调节气流比吧。


是的,特别是优化方法的时候是这样考虑的
守一
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雾化气压力过大或过少都会影响雾化效果,从而影响进入矩管的样品量


是的,不过有个最佳平衡点


可以优化
守一
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雾化气压力过大或过少都会影响雾化效果,从而影响进入矩管的样品量


是的,不过有个最佳平衡点
默认值基本是适用的。。。


默认是适用的,但不是最佳的


做方法时才会想去优化,平时做样一般都不优化,因为够用了
千层峰
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雾化气压力过大或过少都会影响雾化效果,从而影响进入矩管的样品量


是的,不过有个最佳平衡点
默认值基本是适用的。。。


默认是适用的,但不是最佳的


不用默认值,那调整就要凭经验了。。。
beyond1977
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压力大雾化产生雾滴细,同样进入炬管的绝对样品量就少了,样品强度就会偏小。压力小,雾化效果差,但是产生的雾滴就相对较大,同样进入炬管的绝对样品量就多了,样品强度就会更大,相应基体也会更大,这时如果测试些低含量的稳定性就会差很多,所以通常按厂商推荐压力即可,根据样品进行适量调节
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