主题：【求助】3000N的请进，关于灯丝饱和电流的问题？

调节灯丝电流，会出现第一亮点和第二亮点，那就是两个饱和点。

原文由 qianshuiyizu 发表:
我是个新手，看到到大家讨论延长SEM钨灯丝(Filament)的使用寿命时提到，尽量使灯丝工作在第一饱和电流下。请问如何调整电流到饱和？能否说得详细一点，谢谢！

肯定有帖子的，仔细查
就是将灯丝电流从小调大，灯丝图像出现第一次最亮后变暗，继续调后会又变亮（不会暗了），前面的那个最亮点就是第一饱和电流

谢谢两位。

根据曲线来看，第二饱和点后电流值会上升的很慢，当你逐步调大电流时会感觉得到的。

扫描电镜是利用聚焦电子束在试样上扫描时，激发某些物理信号，来调制一个同步扫描的显像管，在相应位置成像。具有分辨本领高、放大倍数连续可调、样品制备简单等优点，成为固体材料表面分析的有效工具，即可观察材料断口和显微组织三维形态，还可进行表面成分分析。

　　扫描电镜的成像原理和透射电镜不同，它不用透镜进行放大成像，而是像闭路电视系统 那样，逐点逐行扫描成像。电子枪发射电子束，在加速电压作用下，经电子透镜聚焦后，在样品表面按顺序逐行扫描，激发样品产生各种物理信号，经放大，送到显像管的栅极上，同步调制显像管的电子束强度（荧光屏上的亮度），两束电子束作同步扫描，样品上电子束的位置与显像管荧光屏上电子束的位置一一对应。荧光屏上得到与样品表面特征对应的信息图，画面上亮度的疏密程度表示该信息的强弱分布。

2.2　结构










　　扫描电镜由电子光学系统、扫描系统、信号收集系统、图像显示与纪录系统、真空系统、电源及控制系统组成。
　　（1）电子光学系统 包括电子枪、聚光镜、物镜、样品室。作用是将电子枪发射的电子束聚焦成亮度高、直径小的入射束。样品室的作用是放置样品和安置信号探测器（收集信号）。样品可进行三维空间的移动、倾斜和转动，进行特定位置分析。
　　（2）扫描系统由扫描发生器和扫描线圈组成。作用是使入射电子束在样品表面扫描，并使显像管电子束在荧光屏上作同步扫描；改变入射束在样品表面的扫描幅度（振幅），从而改变放大倍数。
　　（3）信号收集系统扫描电镜应用的信号可分为：电子信号（二次电子、背散射电子、透射电子、吸收电子）、特征x射线信号、可见光信号（阴极荧光）。吸收电子直
图2－1 FEI QUANTA 200型SEM

接用电流表测出，其它电子信号用电子收集器收集；特征x射线用x射线谱仪检测；可见光信号用可见光收集器收集。
　　2.3　成像的物理信号
　　具有一定能量的电子，照射固体样品时，与样品内原子核和核外电子发生弹性和非弹性散射，激发样品产生多种物理信号。
　　(1) 二次电子（SE）
　　入射电子与原子核外电子发生相互作用，使原子失掉电子称为离子（电离），脱离的电子称为二次电子。是距样品表面5－10深度范围激发出来的低能电子。对样品表面状态非常敏感，能有效显示样品表面的微观形貌。其产额越多，荧光屏上该部位亮度越大。产额与原子序数之间无明显依赖关系，不能进行成分分析。空间分辨率较高，是扫描电镜成像的主要信号。
　　(2) 背散射电子(BE)
　　电子射入样品，受到原子的弹性和非弹性散射，一部分电子的散射角大于90°，从试样表面逸出，称为背散射电子、反射电子。BE又分为弹性背散射电子和非弹性背散射电子。前者能量损失很小，接近入射电子能量。是距样品表面100－1000深度范围散射来的。对样品物质的原子序数敏感，可以进行成分分析。BE的形貌衬度不如SE，但仍可作形貌分析。
　　(3) 吸收电子(AE)
　　入射电子中部分与样品作用，随着非弹性散射次数增多，其能量损失、活动力降低，不能再逸出表面，被样品吸收，称为吸收电子。分辨率低。
　　(4) 特征x射线
　　特征x射线是原子内层电子受到激发之后，在能级跃迁过程中直接释放的，具有特征能量和波长的一种电磁波辐射。 发射深度为500－5000。 利用其固定的波长，可进行成分分析和晶体结构研究。 分辨率低。
　　(5) 俄歇电子(AUE)
　　处于激发态的原子体系，释放能量的另一种形式是反射具有特征能量的俄歇电子。距试样表面<10?深度范围内反射的，可进行表层成分分析。
　　(6) 透射电子(TE)
　　透射电子是入射束的电子透过样品而得到的电子。它取决于样品微区的成分、厚度、晶体结构及位向等。

3．图像解释
　　扫描电镜的图像是通过像衬度来解释。其图像的衬度是信号衬度：
　　
　　式中：－电子束在样品表面扫描时从任何两点探测到的信号强度

　　扫描电镜像衬度的形成主要基于样品微区（形貌、原子序数、晶体结构、表面电场磁场等方面）存在差异，入射电子与微区作用时，产生特征信号强度就存在差异，最后反映到显像管荧光屏上的图像就有一定的衬度。
　　根据衬度形成的依据分为形貌衬度、原子序数衬度和电压衬度。

3.1形貌衬度

　　形貌衬度是由于试样表面形貌差异而形成的衬度。利用对样品表面形貌变化敏感的物理信号作为显像管的调制信号所得到的像衬度。
　　二次电子像的衬度是典型的形貌衬度。
　　实验证明，对光滑试样表面、入射电子束能量大于1且固定不变时，二次电子的产额与电子束入射角度的关系为：
　　　　　　　
　　式中：－入射电子束与试样表面法线之间的夹角
　　实际样品的形状是复杂的，但都可以看作是由许多位向不同的小平面组成的。一般情况，入射电子束的方向是固定的，由于试样表面的凹凸不平，它对样品表面不同处的入射角也就不同，电子束在样品表面扫描时任何两点的形貌差表现为信号的强度差。进而形成衬度。
　　由于作用体积的存在，在断口峰、台阶、突出的第二相粒子处的图像特别亮。
　　二次电子像分辨率高、场深大、立体感强，是主要成像方式。
　　背散射电子信号也可用来显示样品表面形貌，但它对表面形貌变化不很敏感，所以，背散射电子像的分辨率不如二次电子像。一般不用它观察形貌。

3.2　原子序数衬度
　　原子序数衬度是由于试样表面物质化学成分（原子序数）差异而形成的衬度。利用对样品微区原子序数或化学成分变化敏感的物理信号作为显像管的调制信号所得到的一种显示微区化学成分差异的像衬度。
　　信号主要有：背散射电子、吸收电子、特征x射线。
（1）背散射电子像衬度
　　背散射电子的产额（电子信号强度）随着试样表面物质的原子序数增加而增大（<40的元素，随变化较为明显），样品表面上平均原子序数较高的区域，产生较强的信号，图像上相应的像区较亮。
（2）吸收电子像衬度
　　不考虑透射电子，吸收电子信号强度与二次电子和背散射电子的发射有关：
　　　　　　　　　
　　吸收电子像的衬度与二次电子像和背散射电子像互补。（平均较大微区，信号强度较高，信号强度较低，二者衬度相反）
3.3　电压衬度
　　电压衬度是由于试样表面电位差异而形成的衬度。利用对样品表面电位状态敏感的物理信号作为显像管的调制信号所得到的像衬度。
　　采用二次电子作调制信号可得到电压衬度像。电压衬度可用来研究材料的工艺结构。

4.实验内容与步骤

4.1　扫描电镜构造认识
　　对照实物，熟悉扫描电镜的基本构造，加深对其工作原理的了解。
4.2　扫描电镜的操作演示
（1）电子束合轴
　　① 调整灯丝电流饱和点。
　　② 调整电子束对中。
（2）放置样品
（3）观察图像
　　① 二次电子像? 表面形貌衬度观察
　　② 背散射电子像? 原子序数衬度观察
（4）配合能谱仪进行定性分析
（5）拍照纪录
（6）停机

开机后要用的时候
电压要从低到高的调节，而不是一下子就调到高的电压
比如你要用20KV的电压去拍照
那么你最好先从8-10KV开始，慢慢升到20KV，