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jiadongtao

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发表于：2004/08/02 23:21:00 楼主管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

小弟刚刚接触icp-aes,遇到很多的问题，我在一家钢铁公司工作，所以接触的大都是钢铁样品，在测试中遇到两个棘手的问题：
1、钢铁中的Si测定中，由于我们只买了一个微波消解器，并且ICP的进样系统是玻璃的，所以在容样过程中不敢使用HF，但是看到有的资料中说可以用硼酸趋敢F离子，不知道这样方法适合我们这个系统不，要是可以的话硼酸和F的反应比例是多少了，趋敢后会对仪器有影响吗？或者是不是有其他的容样的方法？
2、钢铁中的p应该选用那条谱线呢？有一条178的但是作不出来，有一条213的有Cu干扰的很厉害，大虾是不是还有什么好的方法吗？
3、我们的仪器是利曼的，微波消解是一家德国企业产的。能不能给我推荐几本书籍，最好是从初级到中级
希望各位大虾帮帮小弟（邮箱地址：jiadongtao1979@163.com)，先感谢大家了！

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2004/8/3 5:38:00 沙发管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

不妨到超星数字图书馆去找找。

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2004/8/3 9:12:00 板凳管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

原文由 jiadongtao 发表:
小弟刚刚接触icp-aes,遇到很多的问题，我在一家钢铁公司工作，所以接触的大都是钢铁样品，在测试中遇到两个棘手的问题：
1、钢铁中的Si测定中，由于我们只买了一个微波消解器，并且ICP的进样系统是玻璃的，所以在容样过程中不敢使用HF，但是看到有的资料中说可以用硼酸趋敢F离子，不知道这样方法适合我们这个系统不，要是可以的话硼酸和F的反应比例是多少了，趋敢后会对仪器有影响吗？或者是不是有其他的容样的方法？
2、钢铁中的p应该选用那条谱线呢？有一条178的但是作不出来，有一条213的有Cu干扰的很厉害，大虾是不是还有什么好的方法吗？
3、我们的仪器是利曼的，微波消解是一家德国企业产的。能不能给我推荐几本书籍，最好是从初级到中级
希望各位大虾帮帮小弟（邮箱地址：jiadongtao1979@163.com)，先感谢大家了！

1、也有文献报道，少量硅可以使用王水溶解。或使用硼酸驱赶F离子。赶掉F离子后，不会对仪器有什么影响的。
2、P的213的确和Cu有较大的干扰，你可以采取去掉一个背景点试试。178应该也是可以测定的。
3、书籍，我已经在论坛上推荐过了，你可以找找我的帖子。
4、做合金试样，标准是个问题。否则需要打底。

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2004/8/3 9:30:00 马扎管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

我顶，我顶，我顶，
F一定要去干净，不然即使很少两的也会对石英进样系统有破坏。

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2004/8/4 0:25:00 地毯管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

谢谢各位的帮助！

1、 si在0.6%以下用王水在微波消解里可以溶解，但是Si高于0.6%就难了，那么使用HF的话，在样品溶解完后，多加一些硼酸是不是好一些呢，对分析不会有什么大的影响吧！
2、p的213那条线，是不是把靠近Cu谱线的那个背景点去掉，或者和中间那个背景点合并呢！你说的是这个意思吗？小弟水平洼，所以问的很业余！

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2004/8/4 6:32:00 地板管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

不能加太多的硼酸

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2004/8/5 3:15:00 6楼管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

原文由 jiadongtao 发表:
谢谢各位的帮助！
1、 si在0.6%以下用王水在微波消解里可以溶解，但是Si高于0.6%就难了，那么使用HF的话，在样品溶解完后，多加一些硼酸是不是好一些呢，对分析不会有什么大的影响吧！
2、p的213那条线，是不是把靠近Cu谱线的那个背景点去掉，或者和中间那个背景点合并呢！你说的是这个意思吗？小弟水平洼，所以问的很业余！

第一个问题，有人答过了
回答你第二个问题：中间还会有背景点吗？如果背景点出在中间，那就不是背景了，应该就是积分区间了。
我的意思是只用一个背景点。

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