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ID:qijw
行业:其他
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ID:zhjclock
原文由 qijw 发表:显微系统的定位问题是比较关键的技术难点。有时要对比样品处理前后的不同,那么最有说服力的就是同一个地点的对比图。但是在amf实验时比较难以找到上一次的地方。要做标记,就这个问题希望大家讨论一下。我现在的标定方法是两步:1.在宏观下先标定出一个大概范围这样比较容易找到上一次的地方2.我用纳米刻痕在样品中标定,这样就能比较准确地找到同一位置给出对比图谁有更好地方法希望不吝赐教
ID:jeasy
原文由 jeasy 发表:不太会说原位扫面是不是在不抬针的情况下,检测随时间变化的样品
ID:timeiswealth