主题:【求助】原子荧光

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广州二傻子
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做汞标曲经常出现标准空白偏高,导致线性不好。请问什么情况下可以采用二次拟合呢?
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Insm_1143409e
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荧光强度在一定范围内与浓度是呈正比关系,也就是一次曲线。但是浓度太高时一次曲线是做不出来的,通常表现是浓度大的点偏曲线下方,这个时候用二次曲线相关性比一次曲线好。但是你现在的情况是空白荧光强度太高导致曲线线性不好,就不是一次曲线和二次曲线的问题,你试着把一次曲线的0点去掉再拟合,线性应该是可以的。你现在要解决的是将空白浓度降低。
广州二傻子
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原文由 Insm_1143409e(Insm_1143409e) 发表:荧光强度在一定范围内与浓度是呈正比关系,也就是一次曲线。但是浓度太高时一次曲线是做不出来的,通常表现是浓度大的点偏曲线下方,这个时候用二次曲线相关性比一次曲线好。但是你现在的情况是空白荧光强度太高导致曲线线性不好,就不是一次曲线和二次曲线的问题,你试着把一次曲线的0点去掉再拟合,线性应该是可以的。你现在要解决的是将空白浓度降低。
可能软件问题,零点去不掉。
我后来重新配置了还原剂,就可以了(之前用的还原剂浓度比较高)
wangjunyu
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碰到荧光强度高的 可以降低仪器的条件把灵敏度降下来
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