主题:【求助】SPECTRO GENESIS 分析硫酸镍工艺中杂质金属离子的问题

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找斯派克的工程师吧,或者我帮你联系工程师,我的电子邮件kevin.xie@sinyee.cn
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你们的ICAL是怎么做的?溶液自己配还是买供应商的?好贵哦
zhusiwei
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原文由 lireny 发表:
各位老师大家好!
我是一名刚走出校门的分析化学本科生,初到单位工作,老大便将新购的一台SRECTRO公司生产的SPECTRO GENESIS ICP-OES全权交给我来做方法,包括标准溶液的配制,谱线的选定,背景校正等具体方案的确定。所学实在有限制,在闭门造车一月之后,毫无成果。年轻气盛,在老大面前立下军令状,言三月内必出结果云云……希望各位老师施以援手,挽救下自负的年轻人。

具体情况如下:
仪器:德国SPECTRO生产的SPECTRO GENESIS EOP ICP-OES
检测项目:1、硫酸镍工艺中溶液成分:
            样品A:Ni基体15-40g/l  Na基体30g/l左右
            要求检测:Ca、Mg、Fe、Cu、Mn、Zn、Cd、Co、Cr、Pb、Al、Sn。杂质中Cu含量可能会有1-5g/l,Zn含量可能有10-30g/l,其他含量均属于微量(0.0001-0.01g/l)。
            样品B:基本和A相同,Zn含量降低到0.001g/l以下。
            样品C:Ni基体80g/l以上 Na基体10g/l左右
            要求检测:同A,杂质含量属微量。
            样品D:Ni基体1-2g/l Fe基体 5-10g/l Na基体 20g/l左右 Zn大于30g/l
            要求检测:除基体以外的A项目元素
            样品E(成品):Ni基体大于100g/l
            要求检测:同A。

通过查阅有关资料,了解到ICP-OES的相关说明。但所得资料大多是关于美国热电公司,德国SPECTRO的相关论文很少。而且面对如此实际问题,明知道基体干扰和背景干扰,却完全不知道如何校正。更糟糕的是,对与标准的配制还大有疑问:自己配的标准在输入方法之后再返测,居然连标准都测不准。这一头的包,已经困扰着我无法如眠。

我把我的相关问题向各位老师罗列,希望您能不吝赐教。
1、现在的标准,是将以上要测的13元素混配在一起,统一硝酸介质,空白用5%的硝酸。浓度分别为0、0.1、1.0、10.0mg/l。这样的配法到底对不对?
2、关于仪器的参数设定,老大反复关照说1300W的RF功率是出厂设定的,不可更改;冷却气14l/min、辅助气1l/min、载气1l/min是否对以上所有检测都有统一参数?
3、谱线选定:Ni 231.604
            Ca 393.366
            Cd 214.438
            Co 360.537
            Cr 267.716
            Cu 324.754
            Fe 259.373
            Mg 279.553
            Mn 257.611
            Pb 405.778
            Zn 271.249
            Sn 189.991
            Al 308.214
这样的选定对不对?是否有相互干扰?
4、Ni干扰。我用纯度99.99%的泡沫金属镍溶样,以上面的标准做检测。发现Ni对Zn和Co的影响极大。居然能凭空测出25mg/l、50mg/l跟Ni基体浓度成倍数关系的干扰浓度。其他元素也有干扰,但没Zn、Co这么明显。我尝试用系数校正,很可惜,失败了。请问消除Ni基体干扰最好用什么办法?
5、Na干扰。工艺生产中引入了大量的Na离子,使溶液中Na含量很高。我询问过我大学里的老师,她表示一定要稀释Na离子。可是稀释之后,其他微量元素就……请问:有没有摆脱Na离子干扰的办法?
6、背景干扰的仪器校正。SPECTRO GENESIS ICP-OES具有自动背景校正功能(说明书上说的)。但具体扣背景的操作,因仪器而异。苦于找不到扣背景的根据,现在标准的背景一概没有扣除。有没有和我用同一仪器的老师来指导下,在它的软件环境下如何扣除背景?

以上问题请各位老师知无不言,学生万分感谢!


  我也遇到了这样的问题,嗨
psps1981
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原文由 csl_moon 发表:
你们的ICAL是怎么做的?溶液自己配还是买供应商的?好贵哦


035417  Instrument Calibration(ICAL) Standards Kit, Specpure|r
100ml  感兴趣的话联系我
Peter(史玥师).
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